1) vacuum cathode arc ion plating
真空阴极电弧离子镀
1.
It is researched on low temperature deposition TiC coating of vacuum cathode arc ion plating technique by the method to import C 2H 2+C 3H 8+Ar+N 2 mixture gases.
研究输入 C2 H2 +C3H8+Ar+N2 混合气的低温沉积 Ti C涂层真空阴极电弧离子镀技术 ,研究结果表明 :Ti C涂层层深 0 。
2) cathodic vacuum arc
真空阴极弧离子镀
1.
The principle and type of cathodic vacuum arc, the generation of macropaticle and the filter are described.
叙述了真空阴极弧离子镀技术的原理,种类,宏观颗粒的产生以及磁过滤器的应用。
3) filtered cathode vacuum arc ion plating equipment
过滤阴极真空电弧离子镀膜机
4) filtered cathode vacuum arc deposition
过滤阴极真空电弧离子镀膜技术
5) cathodic arc ion plating
阴极电弧离子镀
1.
Corrosion behavior of ZrN gradient and Zr/ZrN multilayer coatings deposited by cathodic arc ion plating
阴极电弧离子镀ZrN梯度膜和Zr/ZrN多层膜的腐蚀特性
6) CVAD
阴极真空电弧离子沉积
1.
MgO thin films deposited on Si(100) were prepared by cathodic vacuum arc deposition(CVAD) at different oxygen flow rates.
采用阴极真空电弧离子沉积技术在硅基片上制备出了MgO薄膜。
补充资料：热阴极电离真空计（thermalcathodeionizationvacuumgauge）
热阴极电离真空计（thermalcathodeionizationvacuumgauge）
气体中的电子当它具有足够能量时，一旦与气体分子碰撞就会引起分子电离，产生正离子及电子。电子在一定的飞行路程中与分子的碰撞数正比于气体压强P，所以产生的正离子数也正比于压强P，这种利用离子电流的测量而获得真空数值的称为电离真空计。
为了实现以上的过程，需要有一个热阴极来发射电子，一个给电子以能量的加速并收集电子的加速极，以及一个收集离子的收集极。收集极与放大显示电路相连结就构成了真空计。
电离计的测量范围为10-3～10-7托，在上限处由于电子繁流使得离子流与压强的关系偏离线性的工作区，在下限处由于电子打到加速极产生了轫致辐射，此辐射又在收集极上产生光电子，此光电子的量值相当于在10-8托下的离子流，所以10-8托即成了测压的下限。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条