1) 4 historical leaps
四次飞跃
2) the second rapid development
二次飞跃
1.
Six potential points of realizing the second rapid development of rural economy are presented in Yantai,the rules of the city choosing as the base of economic increasing points are pointed out and the apporachs of using potentials to realize the aim are discussed.
探讨了烟台市实现农村经济二次飞跃的六大潜力点，提出了本市选择经济增长点依据的原则，并讨论了利用潜力点实现经济目标的途
3) two leaps
两次飞跃
1.
Therefore, two leaps of productivity are possible d.
因此可以在同一时期内同样过程中实现生产力发展的两次飞跃,即从初步发达生产力到发达生产力飞跃的同时,也发展成为先进的生态生产力。
2.
DENG Xiao-ping put forward"two leaps" on agricultural reform and development, one is from People s Commune to house hold contract responsibility system, the other is to promote collective economy and wide scope economy.
邓小平提出我国农业改革与发展要经过从人民公社到家庭承包经营和发展适度规模经营、发展集体经济这"两次飞跃"的思想,是对我国农业发展的战略构想,是实现我国农业现代化的根本指针。
4) the second leap
第二次飞跃
1.
Through re-practice and enrichment of connotations of such mode, the second leap is sure to come about.
通过再实践,人才培养模式的内涵正在不断丰富,将出现第二次飞跃。
2.
The socialist theory system with Chinese characteristics has persevered and developed Marxism-Leninism and Mao Zedong Thought,giving right answer to the basic problem that is "What is socialism and how to construct it",and it is also the second leap in adapting Marxism to the conditions in China.
中国特色社会主义理论体系坚持和发展了马克思列宁主义、毛泽东思想,正确回答"什么是社会主义,怎样建设社会主义"这一中国社会主义建设的基本问题,是马克思主义中国化第二次飞跃。
3.
Deng Xiaoping,remaining committed to the ideological line of emancipating the mind,seeking truth from facts and advancing with the times,fulfills the second leap of the localization of Marxism in China by combining it with Chinese reality and makes pathbreaking contribution to the formation of the socialism theories with Chinese characteristics.
邓小平坚持解放思想、实事求是、与时俱进的思想路线,把马克思主义与中国社会主义建设实际结合起来,实现了马克思主义中国化的第二次飞跃,为中国特色社会主义理论的形成作出了开创性贡献。
补充资料：半导体工艺技术面临重大飞跃
Intel、摩托罗拉、IBM等公司与美国三个国家实验室昨日披露了超紫外线光刻技术的步进机（stepper）原型。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条