1) Mud-arc ion-plating
多弧离子法
2) arc ion plating
多弧离子镀
1.
Ti70Al30N and graded(Ti,Al)N coatings were deposited on 1Cr11Ni2W2MoV martensitic stainless steel by arc ion plating.
采用多弧离子镀技术在马氏体不锈钢1Cr11Ni2W2MoV表面分别沉积Ti70Al30N及梯度(Ti,Al)N涂层。
2.
A NiCoCrAlY coating was deposited on a Ni-base superalloy K417G by arc ion plating.
用多弧离子镀在镍基高温合金K417G上制备了NiCoCrAlY涂层,对涂层进行了1050℃真空退火4小时、粉末包覆渗铝、1100℃下预氧化1小时等后续预处理;研究了涂层在1000℃下的高温氧化行为。
3.
The cavitation erosion behavior of TiN, CrN and (Ti,Cr)N hard coatings produced by arc ion plating on the surface of grey cast iron was studied with an ultrasonic cavitation erosion testing apparatus and a scanning electron microscope.
利用磁致伸缩振动空蚀试验装置 ,研究了灰口铸铁表面多弧离子镀 Ti N、Cr N及 (Ti,Cr) N硬质膜的抗空蚀性能 。
3) multi-arc ion plating
多弧离子镀
1.
Wear resistance of hard coatings plated on 45 steel substrate by multi-arc ion plating;
45~#钢多弧离子镀硬质涂层的耐磨性
2.
Preparation and ultra micro-hardness of TiN/AlN nano-multilayer deposited by multi-arc ion plating;
多弧离子镀制备TiN/AlN纳米多层膜及其超硬效应
3.
Research on technology of TiN/Cu superhard nanocomposite films prepared by multi-arc ion plating;
多弧离子镀制备TiN/Cu纳米复合超硬膜的工艺研究
4) multi-arc ion coating
多弧离子镀
1.
Effect of plasma parameters on thin film deposition during multi-arc ion coating;
多弧离子镀沉积过程中等离子体参数对薄膜沉积的影响
2.
Study on light absorption properties of nitrogen-doped titanium dioxide thin films prepared by multi-arc ion coating;
多弧离子镀镀制掺氮二氧化钛薄膜及其光吸收特性的研究
5) multi-arc ion-plating
多弧离子镀
1.
Anticorrosivity of Ti-Cr-N films deposited on ZL201 aluminum alloy by multi-arc ion-plating;
ZL201铝合金多弧离子镀涂层的耐腐蚀性能的研究
2.
Ti(C,N)-based cermets were coated with a TiN/TiAlN coating using multi-arc ion-plating technology.
采用多弧离子镀技术在Ti(C,N)基金属陶瓷基体上沉积了TiN/TiAIN涂层,通过扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、原子力显微镜等分析技术对其显微组织、成分、相结构、粗糙度及涂层与基体间的结合强度进行了分析。
3.
The structure and phase of nickel films deposited by the multi-arc ion-plating on ZL201 aluminum alloy were analyzed by SEM and XRD.
用多弧离子镀的方法在ZL201铝合金表面制备了一层镍涂层,并用扫描电镜和X射线衍射仪对涂层表面形貌和物相进行了分析,结果表明:涂层表面存在着大量宏观颗粒,镍涂层呈现(200)晶面择优取向。
6) multi arc ion plating
多弧离子镀
1.
Ti,Cr)N films were deposited using TG 6B multi arc ion plating machine.
用多弧离子镀膜机 ,以W 6Mo5Cr4V2高速钢为基体材料 ,镀覆 (Ti,Cr)N多元膜 ,研究了多弧离子镀工艺对膜层性能的影响 ,确定了最佳镀膜工艺参数 ,探讨了多元膜层的强化机理。
2.
TiN films were prepared on copper based Cr substrates by multi arc ion plating.
使用多弧离子镀在铜基镀Cr的衬底上制备TiN薄膜 ,借助表面分析技术研究了不同温度下离子镀TiN与Cr/Cu接触的界面与表面性质 。
补充资料：等离子弧切割
用等离子弧作为热源、借助高速热离子气体熔化和吹除熔化金属而形成切口的热切割。等离子弧切割的工作原理与等离子弧焊相似，但电源有 150伏以上的空载电压,电弧电压也高达100伏以上。割炬的结构也比焊炬粗大，需要水冷。等离子弧切割一般使用高纯度氮作为等离子气体，但也可以使用氩或氩氮、氩氢等混合气体。一般不使用保护气体，有时也可使用二氧化碳作保护气体。等离子弧切割有3类:小电流等离子弧切割使用70～100安的电流，电弧属于非转移弧，用于5～25毫米薄板的手工切割或铸件刨槽、打孔等；大电流等离子弧切割使用100～200安或更大的电流，电弧多属于转移弧（见等离子弧焊）,用于大厚度（12～130毫米）材料的机械化切割或仿形切割；喷水等离子弧切割,使用大电流,割炬的外套带有环形喷水嘴，喷出的水罩可减轻切割时产生的烟尘和噪声，并能改善切口质量。等离子弧可切割不锈钢、高合金钢、铸铁、铝及其合金等，还可切割非金属材料，如矿石、水泥板和陶瓷等。等离子弧切割的切口细窄、光洁而平直，质量与精密气割质量相似。同样条件下等离子弧的切割速度大于气割，且切割材料范围也比气割更广。（见彩图）
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条