1) Pulse arc plasma deposition
脉冲多弧离子镀
1.
Diamond like carbon(DLC) films have been prepared on silicon by pulse arc plasma deposition.
利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜。
2) pulse arc ion plate
脉冲电弧离子镀
4) pulsed bias arc ion plating
脉冲偏压电弧离子镀
1.
Mechanical and optical properties of titanium dioxide films prepared by pulsed bias arc ion plating;
脉冲偏压电弧离子镀TiO_2薄膜的力学与光学性能
2.
Dielectric Films of TiO_2 and AlN by Pulsed Bias Arc Ion Plating;
脉冲偏压电弧离子镀沉积TiO_2与AlN介电薄膜
3.
Fundamentals of Pulsed Bias Arc Ion Plating;
脉冲偏压电弧离子镀的工艺基础研究
5) pulsed vacuum arc deposition
脉冲真空电弧离子镀膜
1.
It s very important to control the thickness of the film in the process of the pulsed vacuum arc deposition (PVAD).
在脉冲真空电弧离子镀膜过程中,膜层厚度的控制至关重要。
6) arc ion plating
多弧离子镀
1.
Ti70Al30N and graded(Ti,Al)N coatings were deposited on 1Cr11Ni2W2MoV martensitic stainless steel by arc ion plating.
采用多弧离子镀技术在马氏体不锈钢1Cr11Ni2W2MoV表面分别沉积Ti70Al30N及梯度(Ti,Al)N涂层。
2.
A NiCoCrAlY coating was deposited on a Ni-base superalloy K417G by arc ion plating.
用多弧离子镀在镍基高温合金K417G上制备了NiCoCrAlY涂层,对涂层进行了1050℃真空退火4小时、粉末包覆渗铝、1100℃下预氧化1小时等后续预处理;研究了涂层在1000℃下的高温氧化行为。
3.
The cavitation erosion behavior of TiN, CrN and (Ti,Cr)N hard coatings produced by arc ion plating on the surface of grey cast iron was studied with an ultrasonic cavitation erosion testing apparatus and a scanning electron microscope.
利用磁致伸缩振动空蚀试验装置 ,研究了灰口铸铁表面多弧离子镀 Ti N、Cr N及 (Ti,Cr) N硬质膜的抗空蚀性能 。
补充资料：离子爆炸脉冲
分子式：
CAS号：
性质：带电粒子使其轨迹附近的原子发生爆炸式的电离，形成带静电的不稳定区域，其中的离子互相排斥，纷纷离开原位而进入间隙位置。然后通过弹性弛豫过程，使剧烈的应变分散到较大的范围，形成易观测的径迹。
CAS号：
性质：带电粒子使其轨迹附近的原子发生爆炸式的电离，形成带静电的不稳定区域，其中的离子互相排斥，纷纷离开原位而进入间隙位置。然后通过弹性弛豫过程，使剧烈的应变分散到较大的范围，形成易观测的径迹。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条