1) GaInP/(Al_xGa_(1-x))InP
GaInP/(AlxGa1-x)InP
2) Al_xGa_(1-x)N
AlxGa1-xN
1.
The effect of strain on band structure and bowing parameters of Al_xGa_(1-x)N which is pseudomorphically strained was analyzed theoretically.
在生长AlxGa1-xN外延层过程中,由于外延层的热膨胀系数和晶格常数与衬底的不同,导致许多残留应变产生,这会影响外延层材料的能带结构和跃迁能。
3) Al_xGa_(1-x)As
AlxGa1-xAs
1.
The wet oxidation of buried Al_xGa_(1-x)As was investigated.
详细研究了温度和Al组分与AlxGa1-xAs横向氧化速率的关系,通过分析氧化机制和实验得到的氧化宽度与时间的线性关系,指出在较短时间内的氧化为受AlxGa1-xAs材料与水汽反应速率限制的过程。
5) GaInP growth
GaInP生长
6) In x Ga 1-x As/InP
In0.63Ga0.37As/InP
补充资料:indium phosphide (inp)
CAS:22398-80-7
中文名称:磷化铟;磷化铟晶体INP
英文名称:indium phosphide;indium monophosphide;indium phosphide (inp)
中文名称:磷化铟;磷化铟晶体INP
英文名称:indium phosphide;indium monophosphide;indium phosphide (inp)
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条