1) selective wet chemical etching
化学湿法刻蚀
2) wet chemical etching
湿法化学刻蚀
3) chemical etching method
化学刻蚀法
1.
Application of chemical etching method in the study of microstructure of PVC/CaCO_3 composites;
化学刻蚀法在PVC/CaCO_3复合材料显微结构研究中的应用
4) wet etching
湿法刻蚀
1.
Research on K9 glass wet etching for MOEMS devices;
应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究
2.
Study on the deep wet etching of the silicon for MEMS;
MEMS中硅的深度湿法刻蚀研究
3.
Influence of wet etching on the morphologies of Si patterned substrates and ZnO epilayers
湿法刻蚀对Si基片孔点阵及ZnO外延薄膜周期形貌的影响
5) wet-etching
湿法刻蚀
1.
Textured ZnO:B film with(110)peak was fabricated by MOCVD and CH3COOH wet-etching technique was proposed to treat the film surface.
本文制备出(110)峰取向的绒面结构MOCVD-ZnO:B薄膜并提出CH3COOH湿法刻蚀的表面处理技术。
2.
And some Preliminary Studies have been done to the wet-etching of the thin film.
通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研究。
6) Wet etch
湿法刻蚀
1.
Underetch phenomenon in glass wet etch also played an important role to etch microchannels.
方法:以商品化的氧化铟锡(ITO)透明导电玻璃为芯片加工的基质材料,利用光刻胶AZ4620作为玻璃湿法刻蚀的掩模层,并应用玻璃湿法刻蚀过程中的钻蚀效应,快速、低成本地加工细胞培养芯片;将此芯片与聚二甲基硅氧烷(PDMS)薄膜经氧等离子体作用后共价结合,整合温度控制系统、进样系统、信号检测系统等。
补充资料：光电化学刻蚀
分子式：
CAS号：
性质：在光照射下，半导体基质在与其相接触的电解质溶液中的溶蚀过程。这种技术用于半导体表面的光学制版工艺中。
CAS号：
性质：在光照射下，半导体基质在与其相接触的电解质溶液中的溶蚀过程。这种技术用于半导体表面的光学制版工艺中。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条