1) CDE
化学干法刻蚀
1.
The Application of CDE in TFT-LCD Process;
化学干法刻蚀在TFT-LCD工艺中的应用
2) chemical etching method
化学刻蚀法
1.
Application of chemical etching method in the study of microstructure of PVC/CaCO_3 composites;
化学刻蚀法在PVC/CaCO_3复合材料显微结构研究中的应用
3) dry etching
干法刻蚀
1.
Effect of dry etching on light emission of InAsP/InP SMQWs;
干法刻蚀影响应变量子阱发光的机理研究
2.
Research of dry etching simulator in micromachining;
微加工干法刻蚀工艺模拟工具的研究现状
3.
Research of CCl_2F_2 plasma dry etching InSb-In thin film;
CCl_2F_2等离子体干法刻蚀InSb-In薄膜的研究
5) dry-etching
干法刻蚀
1.
The testing technologies of SiC MESFET on manufacturing process were presented,including identification chip surface,dry-etching monitoring,aided testing of isoplanar,the test of the specific contact resistance of ohmic contact and other various testing technologies.
介绍了SiC MESFET芯片加工工艺中的主要在片检测技术,包括芯片表面情况判定、干法刻蚀的监测、等平面工艺的辅助测试、欧姆接触比接触电阻值的测试以及各种中间测试技术。
6) wet chemical etching
湿法化学刻蚀
补充资料：光电化学刻蚀
分子式：
CAS号：
性质：在光照射下，半导体基质在与其相接触的电解质溶液中的溶蚀过程。这种技术用于半导体表面的光学制版工艺中。
CAS号：
性质：在光照射下，半导体基质在与其相接触的电解质溶液中的溶蚀过程。这种技术用于半导体表面的光学制版工艺中。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条