1) defect
杂质缺陷
2) Impurities
杂质
1.
GC-MS analysis of metribuzin technical and its main impurities;
气-质联机对嗪草酮原药及其主要杂质的分析
2.
Discussion on reaction mechanism and impurities formation of antioxidant RD;
防老剂RD的反应机理及杂质形成的探讨
3.
Analytical Method for 2,4-D Butylate and its Impurities in Technical Material by GC/MS;
2,4-滴丁酯原药及其杂质GC-MS分析研究
3) impurity
杂质
1.
Influence of K_2O impurity on the crystalline structure of cordierite synthesized from waste aluminum slag;
K_2O杂质对铝型材厂工业废渣合成的堇青石材料晶相结构的影响
2.
Effect of the impurity on the behavior of the trivalent chromium electrodeposition;
杂质对三价铬电沉积行为的影响
3.
Influence reasons on impurity of resin products and innovation measures;
PVC树脂产品杂质的影响因素及改进措施
4) Inclusion
杂质
1.
Inclusion Removal in Multi-crystal Silicon Fabricated by Metallurgical Method;
冶金法制备多晶Si杂质去除效果研究
2.
Inclusion damage mechanisms of optical glass under laser irradiation;
激光辐照下杂质诱导光学玻璃损伤的两种机理
3.
, the author analyses the causes, mechanism and affecting factors of the internal mid-slab cracks, and discusses the effective measures to prevent mid-slab cracks in respects of controlling casting speed, inclusion, etc.
通过对天铁热轧1650mm 1#板坯连铸机工艺流程的生产数据跟踪,针对铸坯内部中间裂纹的形成原因、机理、影响因素等进行分析,从拉速控制、杂质元素控制等几方面探讨了防止铸坯中间裂纹产生的有效措施。
5) trash
杂质
1.
Effect of Web Cleaner Mote Knife Gauge on Neps and Trash;
棉网清洁器除尘刀隔距对棉结和杂质的影响
2.
Knowing the trash and dust content in the spinning process provides a great variety of information with regard to the machine settings, the wear of machine parts and the quality of the finished fabric.
纺纱工艺过程中的杂质、灰尘量可提供大量与机器参数、机件磨损及成品布质量有关的信息。
3.
By variance analysising, we find that opening and cleaning process has a great effect on neps and trash of card sliver, and that carding process has a great effect on short fiber content of card sliver.
对国产和引进清梳机进行二因子二水平的正交实验及方差分析,认为开清棉工序对生条中的棉结和杂质有显著影响,梳棉工序对生条中的短绒有显著影
6) foreign substance
杂质
1.
Purified liquor means liquor which has no or few foreign substance harmful to people′s health, contains no flavour components and has its particular production mode and quality standard.
纯净酒即指不含或基本不含对人体有害的杂质的酒,不含呈香呈味的物质成分,有独特的生产工艺和质量标准。
2.
Common foreign substances include curing liquid, dust, grout and releasing agent etc.
混凝土常见的表面杂质有养护液、灰尘、水泥浮浆、脱模剂等 ,另外表面还常出现毛刺以及内部含有化学杂质等缺陷 ,处理的方法有化学清理、蒸汽清理、喷砂清理、真空吸尘以及酸蚀法等 ,清理时应尽量避免锤击等操
3.
The causes of substrate defer producing bit errors for magneto-optical disks are analysed, and the mathematical model for describing the relation of readout waveform diStribution and the foreign substance contained in substrates is establised.
首次建立了磁光盘读出光场与基片杂质特性的数学模型,利用数值分析方法研究了读出信号畸变、误码长度与杂质特性的关系。
参考词条
补充资料:半导体中的杂质缺陷
半导体中的杂质缺陷
impurities and defects in semiconductors
半导体中的杂质缺陷impurities and defects insemiconductors半导体中的杂质和缺陷对半导体材料性质影响很大,直接关系到电子器件性能的好坏。因此,半导体的纯度、完整性及其均匀性等方面,一直是重要的研究课题。 半导体中的杂质 为了保证器件质量,要求半导体材料成为超纯物质。在超纯半导体中掺入适量的某种杂质成为各类掺杂半导体。半导体器件和集成电路几乎全部使用掺杂半导体。(见材料的超提纯) 半导体硅的纯度已基本满足目前各级半导体器件的要求。随着大规模和超大规模集成电路的问世,对硅单晶的完整性和均匀性提出更高的要求。集成电路用的硅单晶主要是用直拉法(CZ)生产的无位错晶体。现在突出的问题是硅中点缺陷、微缺陷以及氧、碳、氮微量杂质的行为和掺杂剂均匀分布等方面。为了控制杂质分布和单晶生长热历史,晶体生长新技术正在不断发展,例如,采用颗粒状多晶连续加料连续拉晶、磁场拉晶以及微重场拉晶等新技术。 目前所制备的化合物单晶中,剩余杂质的含量仍相当可观。多数单晶中剩余浅能级杂质总含量在10J5at/em3以上,个别高达10’7at/em3。过高的剩余杂质,不仅使材料的电学参数互相补偿,也难于有效地控制掺杂,并且会造成单晶中杂质的微沉淀,影响结构完整性、电学参数的热稳定性、均匀性以及载流子迁移率。因此,为了降低化合物半导体中剩余杂质含量,提高原材料的化学纯度是关键问题之一。 半导体中杂质种类很多。依据杂质原子在晶格中的不同位置,杂质原子可分为替位原子和间隙原子。依据杂质能级在禁带中的位置,杂质可分为浅能级杂质和深能级杂质。依据杂质对半导体电性影响,又可分为电活性杂质和电中性杂质。 浅能级杂质杂质能级靠近导带底的称为浅施主杂质。杂质能级靠近价带顶的称为浅受主杂质。 浅能级杂质可在室温全部电离。半导体的电学特性,如导电类型、电阻率等,主要由它们决定,所以浅能级杂质又称为电活性杂质,它们是半导体中特别重要的一类杂质。 深能级杂质禁带中杂质的施主能级距导带底较远,t杂质的受主能级距价带顶也较远的一类杂质。这种能级称深能级,它们的电离能较大,在室温不会全部电离。有多重能级。有的既能引入施主能级,又能引入受主能级。深能级杂质原子的结构、大小与其在晶格中的位置有关。目前,深能级杂质的行为和理论尚未完全清楚。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。