1)  Impurity
杂质:
2)  Impurities
杂质
1.
GC-MS analysis of metribuzin technical and its main impurities;
气-质联机对嗪草酮原药及其主要杂质的分析
2.
Discussion on reaction mechanism and impurities formation of antioxidant RD;
防老剂RD的反应机理及杂质形成的探讨
3.
Analytical Method for 2,4-D Butylate and its Impurities in Technical Material by GC/MS;
2,4-滴丁酯原药及其杂质GC-MS分析研究
3)  impurity
杂质
1.
Influence of K_2O impurity on the crystalline structure of cordierite synthesized from waste aluminum slag;
K_2O杂质对铝型材厂工业废渣合成的堇青石材料晶相结构的影响
2.
Effect of the impurity on the behavior of the trivalent chromium electrodeposition;
杂质对三价铬电沉积行为的影响
3.
Influence reasons on impurity of resin products and innovation measures;
PVC树脂产品杂质的影响因素及改进措施
4)  Inclusion
杂质
1.
Inclusion Removal in Multi-crystal Silicon Fabricated by Metallurgical Method;
冶金法制备多晶Si杂质去除效果研究
2.
Inclusion damage mechanisms of optical glass under laser irradiation;
激光辐照下杂质诱导光学玻璃损伤的两种机理
3.
, the author analyses the causes, mechanism and affecting factors of the internal mid-slab cracks, and discusses the effective measures to prevent mid-slab cracks in respects of controlling casting speed, inclusion, etc.
通过对天铁热轧1650mm 1#板坯连铸机工艺流程的生产数据跟踪,针对铸坯内部中间裂纹的形成原因、机理、影响因素等进行分析,从拉速控制、杂质元素控制等几方面探讨了防止铸坯中间裂纹产生的有效措施。
5)  trash
杂质
1.
Effect of Web Cleaner Mote Knife Gauge on Neps and Trash;
棉网清洁器除尘刀隔距对棉结和杂质的影响
2.
Knowing the trash and dust content in the spinning process provides a great variety of information with regard to the machine settings, the wear of machine parts and the quality of the finished fabric.
纺纱工艺过程中的杂质、灰尘量可提供大量与机器参数、机件磨损及成品布质量有关的信息。
3.
By variance analysising, we find that opening and cleaning process has a great effect on neps and trash of card sliver, and that carding process has a great effect on short fiber content of card sliver.
对国产和引进清梳机进行二因子二水平的正交实验及方差分析,认为开清棉工序对生条中的棉结和杂质有显著影响,梳棉工序对生条中的短绒有显著影
6)  foreign substance
杂质
1.
Purified liquor means liquor which has no or few foreign substance harmful to people′s health, contains no flavour components and has its particular production mode and quality standard.
纯净酒即指不含或基本不含对人体有害的杂质的酒,不含呈香呈味的物质成分,有独特的生产工艺和质量标准。
2.
Common foreign substances include curing liquid, dust, grout and releasing agent etc.
混凝土常见的表面杂质有养护液、灰尘、水泥浮浆、脱模剂等 ,另外表面还常出现毛刺以及内部含有化学杂质等缺陷 ,处理的方法有化学清理、蒸汽清理、喷砂清理、真空吸尘以及酸蚀法等 ,清理时应尽量避免锤击等操
3.
The causes of substrate defer producing bit errors for magneto-optical disks are analysed, and the mathematical model for describing the relation of readout waveform diStribution and the foreign substance contained in substrates is establised.
首次建立了磁光盘读出光场与基片杂质特性的数学模型,利用数值分析方法研究了读出信号畸变、误码长度与杂质特性的关系。
参考词条
补充资料:半导体材料中的杂质


半导体材料中的杂质
impurity in semiconductor material

bandaotl eall旧0 zhong de zazh!半导体材料中的杂质(impurity in Semieon-duetor material)半导体晶格中存在的与其基体不同的其他化学元素原子。杂质的存在使严格按周期性排列的原子所产生的周期性势场受到破坏,这对半导体材料的性质产生决定性的影响。杂质元素在半导体材料中的行为取决于它在半导体材料中的状态,同一种杂质处于间隙态或代位态,其性质也会不同。电活性杂质在半导体材料的禁带中占有一个或几个位置作为杂质能级。按照杂质在半导体材料中的行为可分为施主杂质、受主杂质和电中性杂质。按照杂质电离能的大小可分为浅能级杂质和深能级杂质。浅能级杂质对半导体材料导电性质影响大,而深能级杂质对少数载流子的复合影响更显著。氧、氮、碳在半导体材料中的行为比较复杂,所起的作用与金属杂质不同,以硅和砷化稼为例叙述杂质的行为。 硅中的杂质主要有金属杂质和氧、碳。 金属杂质分为浅能级杂质和深能级杂质。l族元素硼、铝、稼、锢和v族元素磷、砷、锑,它们在硅中的能级,位于导带底或价带顶的附近,电离能级小,极易离化,因此称为浅能级杂质。它们是硅中主要的电活性杂质。妞族元素起受主作用,v族元素起施主作用,常用作硅的掺杂剂。这两种性质相反的杂质,在硅中首先相互补偿,补偿后的净杂质量提供多数载流子浓度。 其他金属杂质,尤其是过渡元素(重金属),如铜、银、金、铁、钻、镍、铬、锰、铂等,在硅中的能级位置一般远离导带底或价带顶,因此称为深能级杂质。它们在硅中扩散快,并起复合中心作用,严重影响少子寿命。它们本身可产生缺陷,并易与缺陷络合,恶化材料和器件的性能。除特殊用途外,重金属元素在硅中都是有害杂质。 镍、钻、铜、铁、锰、铬和银所造成的“雾”缺陷,按次序降低。铜和镍具有高的扩散系数和高的间隙溶解度,在“雾”缺陷形成中,它们会溶解、扩散并沉淀在硅中,而铁、铬、钻则在热处理中将留在硅的表面。 铿、钠、钾、镁、钙等碱金属和碱土金属离子,在电场作用下易在p一n结中淀积,使结退化,导致击穿蠕变,MOS闽电压漂移,沟道漏电,甚至反型。 锗是替位式杂质,电中性,能有效地消除氧化片滑移,增加硅的机械强度。 氧氧在硅中是间隙型杂质,分散在硅中的氧原子呈电中性。是硅中含量最多又极为重要的杂质。硅中氧主要来源于熔融硅与石英增涡的反应。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。