1) positive/negative bi-layer resist
正/负双层光刻胶
1.
A new technique of thick film lift-off with positive/negative bi-layer resist was presented first in this paper.
首次介绍一种正/负双层光刻胶厚膜剥离技术,采用在厚层正型光刻胶上涂薄层负型光刻胶的方法,在光刻胶的边缘形成顶层外悬的屋檐式结构,实现了10μm蒸发膜层的无高沿边缘剥离。
2) dual layer resist
双层光刻胶
3) negative-working photoresist
负胶光刻
4) polymeric material for optical process
负性光刻胶
5) negative photoresist
负型光刻胶
6) polymeric material for optical process
正性光刻胶
补充资料：负型光刻胶漂洗剂
分子式：
CAS号：
性质：无色透明液体，易燃，一般为酯类，如醋酸丁酯。用电子纯级试剂经1.0μm孔径滤膜过滤制得。适用于负型光刻胶显影后的漂洗，以去除残胶及留下一个没有碳氢化合物的光洁表面。
CAS号：
性质：无色透明液体，易燃，一般为酯类，如醋酸丁酯。用电子纯级试剂经1.0μm孔径滤膜过滤制得。适用于负型光刻胶显影后的漂洗，以去除残胶及留下一个没有碳氢化合物的光洁表面。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条