1) SU8 negative photoresist
SU8负性光刻胶
1.
Researches on the two-photon photopolymerization technology of SU8 negative photoresist have been processed.
飞秒激光SU8负性光刻胶双光子聚合工艺研究。
2) SU8 lithography
SU8光刻
1.
The fabrication of micro-fluidic chips by SU8 lithography on transparent substrate for integrated optical detection was studied,and the factors affect on the quality of lithography such as substrate s thickness,transparency and reflectivity of sample holder surface were discussed.
研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响。
3) polymeric material for optical process
负性光刻胶
4) negative-working photoresist
负胶光刻
5) SU8
SU8胶
1.
Two new methods of fabricating micromegas are introduced,one is a quasi LIGA process using SU8 as the insulation layer,and the other is a process using a dry film as a patternable insulation layer.
本文介绍了利用两种方法制作微网气体探测器微结构的工艺,一种是利用准LIGA工艺,以SU8胶为绝缘层;另一种是利用干膜做绝缘层来制作微网气体探测器。
6) negative photoresist
负型光刻胶
补充资料：Su
分子式 C4H4O3
分子量 100.07
CAS号 108-30-5
琥珀酸酐为白色斜方形棱状结晶。熔点119.6℃。相对密度d204=1.2340。溶于乙醇、氯仿和四氯化碳,微溶于水和乙醚。其沸点随压力不同而变化。
用途;琥珀酸酐是重要的有机合成中间体。在医药工业上主要用于合成氯霉素琥珀酸酯钠（Chloramphenicol sodium succinata)、羟孕酮琥珀酸酯钠、氢化可的松琥珀酸酯钠等。
分子量 100.07
CAS号 108-30-5
琥珀酸酐为白色斜方形棱状结晶。熔点119.6℃。相对密度d204=1.2340。溶于乙醇、氯仿和四氯化碳,微溶于水和乙醚。其沸点随压力不同而变化。
用途;琥珀酸酐是重要的有机合成中间体。在医药工业上主要用于合成氯霉素琥珀酸酯钠（Chloramphenicol sodium succinata)、羟孕酮琥珀酸酯钠、氢化可的松琥珀酸酯钠等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条