1) laminated photoresist
叠层光刻胶
1.
The laminated photoresist sacrificial layer technology and residual stress control in micromirror fabrication were investigated.
对应用于微反射镜制作的叠层光刻胶牺牲层工艺及微反射镜表面残余应力控制进行了研究。
2) dual layer resist
双层光刻胶
3) thick film photoresist
厚层光刻胶
1.
The angular spectrum theory is introduced to analyze optical diffraction lithography in thick film photoresist, and the reflection and transmission on the interface and the variation of dielectric coefficient in depth direction in thick film inhomogeneous resist are considered.
为快速、准确地获得厚层光刻胶内部衍射光场的分布,利用角谱理论的思想,考虑入射光通过掩模后在光刻胶面的反射、透射和光刻胶曝光过程中其折射率及吸收系数在深度方向上的变化,建立了衍射光场在厚层光刻胶中传输的理论模型。
4) multilevel resist
多层光刻胶
5) diazido-cyclized rubber photoresist
双叠氮-环化橡胶光刻胶
6) positive/negative bi-layer resist
正/负双层光刻胶
1.
A new technique of thick film lift-off with positive/negative bi-layer resist was presented first in this paper.
首次介绍一种正/负双层光刻胶厚膜剥离技术,采用在厚层正型光刻胶上涂薄层负型光刻胶的方法,在光刻胶的边缘形成顶层外悬的屋檐式结构,实现了10μm蒸发膜层的无高沿边缘剥离。
补充资料：双叠氮-环化橡胶光刻胶
分子式：
CAS号：
性质：指用双叠氮化合物与经环化后的橡胶(如环化天然橡胶、环化聚异戊二烯橡胶)组成的混合体系，作为光刻胶使用。双叠氮化合物是光敏交联剂，光照下体系发生如下反应：从而聚合物分子间交联。该类型的光刻胶一般为环化橡胶的甲苯溶液，浓度为8％～10％。光敏交联剂加人量为环化橡胶的10％以下，增感剂可以用二苯甲酮或蒽酮等，加入量为5％左右。
CAS号：
性质：指用双叠氮化合物与经环化后的橡胶(如环化天然橡胶、环化聚异戊二烯橡胶)组成的混合体系，作为光刻胶使用。双叠氮化合物是光敏交联剂，光照下体系发生如下反应：从而聚合物分子间交联。该类型的光刻胶一般为环化橡胶的甲苯溶液，浓度为8％～10％。光敏交联剂加人量为环化橡胶的10％以下，增感剂可以用二苯甲酮或蒽酮等，加入量为5％左右。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条