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1)  diazido-cyclized rubber photoresist
双叠氮-环化橡胶光刻胶
2)  cyclized polyisoprene rubber negative photoresist;ultraviolet negative photoresist
环化聚异戊二烯橡胶负性光刻胶
3)  diazonaphthoquinone photoresist
邻叠氮萘醌光刻胶
4)  laminated photoresist
叠层光刻胶
1.
The laminated photoresist sacrificial layer technology and residual stress control in micromirror fabrication were investigated.
对应用于微反射镜制作的叠层光刻胶牺牲层工艺及微反射镜表面残余应力控制进行了研究。
5)  Cyclized rubber
环化橡胶
1.
The development,synthesis and characterization of cyclized rubbers,as well as their application to photoresists are described.
介绍了环化聚异戊二烯和环化聚丁二烯橡胶的研究发展状况、合成方法、结构表征及在光刻胶中的应用 ,提出了环化橡胶的发展趋势。
6)  cyclorubber [,saikləu'rʌbə]
环化橡胶
补充资料:双叠氮-环化橡胶光刻胶
分子式:
CAS号:

性质:指用双叠氮化合物与经环化后的橡胶(如环化天然橡胶、环化聚异戊二烯橡胶)组成的混合体系,作为光刻胶使用。双叠氮化合物是光敏交联剂,光照下体系发生如下反应:从而聚合物分子间交联。该类型的光刻胶一般为环化橡胶的甲苯溶液,浓度为8%~10%。光敏交联剂加人量为环化橡胶的10%以下,增感剂可以用二苯甲酮或蒽酮等,加入量为5%左右。

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