1) positive micromolecule photosensitizer
正性小分子光刻胶
1.
Then it is exposured under HP mercury lamp and developed by 20% NaOH solution,which proves the feasibility of preparing positive micromolecule photosensitizer using 2-nitrobenzyl alcohol as photosensitive module.
以硬脂酸、邻硝基苄醇为原料,合成了硬脂酸邻硝基苄酯,并在高压汞灯下曝光、显影,证明了以邻硝基苄醇作为光敏基元制备正性小分子光刻胶的可行性。
2) polymeric material for optical process
正性光刻胶
3) positive resist lithography
正性胶光刻
4) ultraviolet positive photoresist
紫外正性光刻胶
6) deep ultraviolet positive photoresist
远紫外正性光刻胶
补充资料：正型光刻胶
分子式：
CAS号：
性质：由光分解剂和碱性可溶性树脂及溶剂组成，为重氮萘醌磺酸酯及线性酚醛制成。在受紫外光照射后光照区光分解剂发生分解，溶于有机或无机碱性水溶液，未曝光部分被保留下来，与母版形成相同的图形。该品为琥珀色液体。易溶于醚、酯、酮等有机溶剂，其特点是分辨率好，可以获得亚微米级线宽图形。由于感光速度快，可用于投影曝光和分步重复曝光。在相对湿度50％的环境中对氧化硅、多晶硅以及铝、铜、金、铂等均有很好的黏附性和抗蚀性。其显影和曝光操作宽容度大、易于剥离，且耐热性好、可以耐140℃的烘烤，图形不变形。本品适用于大规模集成电路和电子元器件及光学机械加工工艺的制作。
CAS号：
性质：由光分解剂和碱性可溶性树脂及溶剂组成，为重氮萘醌磺酸酯及线性酚醛制成。在受紫外光照射后光照区光分解剂发生分解，溶于有机或无机碱性水溶液，未曝光部分被保留下来，与母版形成相同的图形。该品为琥珀色液体。易溶于醚、酯、酮等有机溶剂，其特点是分辨率好，可以获得亚微米级线宽图形。由于感光速度快，可用于投影曝光和分步重复曝光。在相对湿度50％的环境中对氧化硅、多晶硅以及铝、铜、金、铂等均有很好的黏附性和抗蚀性。其显影和曝光操作宽容度大、易于剥离，且耐热性好、可以耐140℃的烘烤，图形不变形。本品适用于大规模集成电路和电子元器件及光学机械加工工艺的制作。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条