1) Excimer lithography
准分子光刻
3) Excimer laser Microlithography
准分子激光光刻技术
4) lithography alignment
光刻对准
1.
The relation of IC manufacture process and lithography alignment are studied.
主要针对光刻对准特性,从单项工艺和工艺集成的角度,分析了影响光刻对准的各个主要因素,主要包括对准标记、工艺层、隔离技术等,提出了一些改善光刻对准效果的方法。
5) Excimer laser
准分子激光
1.
The quality study on excimer laser-induced electrochemical etching of silicon;
准分子激光电化学刻蚀硅的刻蚀质量研究
2.
Experimental research of micromachining silicon by excimer laser ablation in air and under water;
水辅助准分子激光微加工硅的实验研究
3.
Study on a method of improving the quality of excimer laser drilling;
提高准分子激光打孔质量的方法研究
6) Eximer laser
准分子激光
1.
Methods Using MEL-70 eximer laser and the matched system of topography supported customized ablation to treat refractive error of compound myopi and astigma in 30 eyes.
目的探讨角膜地形图引导准分子激光个性化切削手术设计方案及其可靠性。
2.
This paper reports the experimental study on the pulse duration stability of stimulated Brillouin scattering in cyclohexane pumped with XeCl eximer laser.
本文用XeCl准分子激光作为泵浦光源 ,对环己烷中的受激布里渊散射脉宽起伏进行了实验研究 。
补充资料：准单分子反应
分子式：
CAS号：
性质：一般所说的单分子反应A→P，均应包括两个步骤：(1)A→A*；(2)A*→P。其中(1)是反应物分子A被活化为激发态A*；(2)是A*进行反应，生成产物分子P。按照定义，只有步骤(2)是真正的单分子反应，但习惯上常将(1)+(2)的总体反应也称为单分子反应。严格而论，包括反应物分子的活化步骤在内的单分子反应，应称为准单分子反应。
CAS号：
性质：一般所说的单分子反应A→P，均应包括两个步骤：(1)A→A*；(2)A*→P。其中(1)是反应物分子A被活化为激发态A*；(2)是A*进行反应，生成产物分子P。按照定义，只有步骤(2)是真正的单分子反应，但习惯上常将(1)+(2)的总体反应也称为单分子反应。严格而论，包括反应物分子的活化步骤在内的单分子反应，应称为准单分子反应。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条