2) dry etching
干法刻蚀
1.
Effect of dry etching on light emission of InAsP/InP SMQWs;
干法刻蚀影响应变量子阱发光的机理研究
2.
Research of dry etching simulator in micromachining;
微加工干法刻蚀工艺模拟工具的研究现状
3.
Research of CCl_2F_2 plasma dry etching InSb-In thin film;
CCl_2F_2等离子体干法刻蚀InSb-In薄膜的研究
3) interference lithography
干涉光刻
1.
The basic principle of multi-interference lithography processes designing and fabricating sub-wavelength grating microstructures is presented.
给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工艺设计和构建可见光波段亚波长光栅微结构的基本原理。
2.
The fabrication methods of MPC include electron beam lithography with subsequent evaporation and lift-off, interference lithography with dry-etching technology etc.
制备金属光子晶体方法包括:电子束刻蚀结合后续剥离法、激光干涉光刻结合干刻蚀技术等。
3.
Waveguided grating structures were fabricated using interference lithography.
利用干涉光刻技术制备了波导耦合纳米光栅结构,系统研究了其波导共振模式的角分辨调谐特性及其对光栅参数、入射光偏振特性的依赖关系,并作了相应的理论模拟。
5) Interferometric lithography
干涉光刻
1.
Study of interferometric lithography without masks;
无掩模激光干涉光刻技术研究
6) dry-etching
干法刻蚀
1.
The testing technologies of SiC MESFET on manufacturing process were presented,including identification chip surface,dry-etching monitoring,aided testing of isoplanar,the test of the specific contact resistance of ohmic contact and other various testing technologies.
介绍了SiC MESFET芯片加工工艺中的主要在片检测技术,包括芯片表面情况判定、干法刻蚀的监测、等平面工艺的辅助测试、欧姆接触比接触电阻值的测试以及各种中间测试技术。
补充资料：寄镜湖方干处士（一作寄方干处士鉴湖旧居）
【诗文】：
贺监旧山川，空来近百年。闻君与琴鹤，终日在渔船。
岛露深秋石，湖澄半夜天。云门几回去，题遍好林泉。
【注释】：
【出处】：
全唐诗：卷838-2
贺监旧山川，空来近百年。闻君与琴鹤，终日在渔船。
岛露深秋石，湖澄半夜天。云门几回去，题遍好林泉。
【注释】：
【出处】：
全唐诗：卷838-2
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