1) Copper film microbridge
Cu膜微桥
2) Nickel film microbridge
Ni膜微桥
3) Robust element of thin film
薄膜微桥
4) Cu film
Cu膜
1.
Radio-frequency influences on Cu film deposited by unbalanced magnetron sputtering;
射频对非平衡磁控溅射沉积Cu膜的影响
2.
Study of Cu film deposited by high density plasma enhanced nonequilibrium magnetron sputtering;
高密度等离子体增强非平衡磁控溅射沉积Cu膜研究
3.
Cu films were prepared at room temperature by DC magnetron sputtering of Cu targets.
在室温条件下,用直流磁控溅射Cu靶制备出了不同厚度的Cu膜,测量了Cu膜的光学透过率和面电阻,分析了光电性质薄膜厚度的变化情况。
5) Cu films
Cu膜
1.
A study on the optical constants of Cu bulk and Cu films;
Cu块材及Cu膜的光学常数研究
2.
Cu films were deposited on carbon steel substrates at low temperatures(LT,164 K-115 K) and room temperature(RT) by ion plating.
采用离子镀技术于45#钢基体表面在低温(164~115 K)和常温(291 K)条件下沉积Cu膜,通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜研究Cu膜的晶体结构及其表面形貌,采用划痕试验法测量Cu膜的临界载荷(Lc),在真空球-盘摩擦磨损试验机上考察其摩擦磨损性能并探讨其磨损机理。
3.
The Cu films were then characterized with X-ray diffraction (XRD), Auger electron spectroscopy (AES) and atomic force microscopy (AFM) .
用射频磁控反应溅射法在Si(111)单晶基体上沉积ZrN扩散阻挡层,随后在其上分别用直流脉冲平衡磁控溅射(BMS)和非平衡磁控溅射(UBMS)沉积Cu膜。
6) Cu-W thin film
Cu-W薄膜
1.
The surface morphology evolution and phase structures of Cu-W thin films with annealing temperatures were investigated.
提出了一种基于离散小波变换和分形几何概念定量描述薄膜表面形貌各向异性的新方法,并据此研究了磁控溅射Cu-W薄膜表面结构特征随退火温度的演变。
补充资料：核微孔膜
分子式：
CAS号：
性质： 利用固体绝缘介质中的核径迹经化学蚀刻处理后形成孔径大小、形状和密度可调而制成的滤膜。其优点是孔径比普通微孔膜的均匀、孔径在5nm至几十微米之间可调节、孔形规则。可用于生物粒子过滤、癌细胞鉴别、红血球变形诊断、超净试剂制备、气溶胶收集、控释透皮药物制备等。
CAS号：
性质： 利用固体绝缘介质中的核径迹经化学蚀刻处理后形成孔径大小、形状和密度可调而制成的滤膜。其优点是孔径比普通微孔膜的均匀、孔径在5nm至几十微米之间可调节、孔形规则。可用于生物粒子过滤、癌细胞鉴别、红血球变形诊断、超净试剂制备、气溶胶收集、控释透皮药物制备等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条