1) photoresist melting method
光刻热熔法
2) melting photoresist
光刻胶热熔法
1.
The fill factor and F number of refractive microlens array fabricated by melting photoresist are increased by reducing developing time.
采用缩短显影时间法改善了光刻胶热熔法制作微透镜阵列的工艺,提高了折射型微透镜阵列的F数(F#)与填充因子。
3) Melting photoresist
光刻胶热熔
1.
A new fabricating method of micro-cylindrical lens arrays by adopting holographic exposure-melting photoresist technology is studied to improve the fabrication technology of micro-cylindrical lens arrays and eliminate dependence of photo-masks during photolithography.
为改善微柱透镜阵列的制作技术、消除光刻工艺对光刻掩模版的依赖,研究了利用全息-热熔技术制作微柱透镜阵列的新方法,即首先采用了全息技术进行曝光,然后利用光刻胶热熔技术在K9玻璃基底上制作出了面形良好的微柱透镜阵列。
4) Melting resist technique
光刻胶熔融法
5) hot etch technique
热蚀刻法
6) hot melt gravure coating
热熔刻花辊涂层
补充资料：熔盐电解法生产铌粉(见熔盐电解法生产钽粉)
熔盐电解法生产铌粉(见熔盐电解法生产钽粉)
production of niobium powder by molten salt electrolysis
rongyand+onjlefa ShengChan n.fen熔盐电解法生产妮粉(produetion。fn;obi-um powder by molten salt eleetrolysls)见熔盐电解法生产担粉。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条