1) HW-MWECR-CVD
微波电子回旋共振化学气相沉积
1.
Hydrogenated microcrystalline silicon(μc-Si∶H)films with high crystalline volume fraction were deposited using a novel hot wire assisted microwave electron cyclotron resonance-chemical vapor deposition(HW-MWECR-CVD)system.
用热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积方法制备出高晶化体积分数的氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜。
2) microwave electron cyclotron resonance chemical vapor deposition
微波电子回旋共振-化学气相沉积
3) electron cyclotron resonance-microwave plasma chemical vapor deposition(ECR-MPCVD)
电子回旋共振-微波等离子体化学气相沉积
4) Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition
微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积
5) ECRCVD
电子回旋共振化学气相沉积
1.
Preparation of Amorphous Silicon Nitride Film by ECRCVD;
用电子回旋共振化学气相沉积(ECRCVD)方法制备非晶态氮化硅薄膜
6) ECR-PECVD
电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积
补充资料：电子自旋共振(见电子回旋共振)
电子自旋共振(见电子回旋共振)
electron spin resonance
电子自旋共振eleetron spin resonanee见电子回旋共振。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条