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1)  MW ECR
微波电子回旋共振
1.
The deposition of a-Si∶H films was performed by using microwave electron cyclotron resonance (MW ECR) plasma with the assistance of tungsten filament.
通过红外透射光谱研究了在光诱导退火中退火条件对氢化非晶硅薄膜的结构和光电特性的影响,实验所用样品采用热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积方法制备。
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2)  electron cyclotron resonance microwave discharge
电子回旋共振微波放电
3)  MWECR-CVD
微波电子回旋共振等离子体CVD
1.
Recent developments over the past decade in the preparation of a-Si∶H films are reviewed, with emphasis on a new means to increase the deposition rate by microwave electron cyclotron resonance-chemical vapor deposition (MWECR-CVD).
为提高a -Si∶H薄膜的沉积速度 ,还重点介绍了一种新的微波电子回旋共振等离子体CVD(MWECR -CVD)技术 。
4)  Electron cyclotron resonance microwave plasma
电子回旋共振微波等离子体
例句>>
5)  ECR sputtering method
电子回旋共振微波等离子体溅射
6)  ECR(electron cyclotron resonance) plasma
电子回旋共振微波反应等离子体
补充资料：电子自旋共振(见电子回旋共振)


电子自旋共振(见电子回旋共振)
electron spin resonance

　　电子自旋共振eleetron spin resonanee见电子回旋共振。
　　
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