2) arc ion plating
电弧离子镀
1.
Properties of TiAlCrN coating prepared by arc ion plating;
电弧离子镀TiAlCrN多元涂层的性能研究
2.
Effect of Ce on microstructure and properties of Ti-coatings deposited by arc ion plating;
电弧离子镀(Ti,Ce)N涂层组织与性能研究
3.
Microstructure and oxidation resistance of NiCrAlY coating deposited on Co-based high-temperature alloy by arc ion plating technology;
钴基合金电弧离子镀NiCrAlY涂层的组织结构和抗氧化性能
3) Cathode arc
电弧离子镀
1.
The single-layer and multi-layer CrN coating have been deposited by cathode arc technigue in this paper.
电弧离子镀是一种优良的薄膜沉积技术，有着其它镀膜形式不可比拟的优点：如高的离化率，高的沉积速率和良好的膜基结合强度等，利用这种技术制备的氮化物薄膜，如TiN、CrN等，已经在工业生产中得到了广泛应用。
2.
The hard film Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC has been prepared by combining unbalanced magnetron sputtering with cathode arc and Hall ion source.
将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC／TiNC+C／DLC硬质膜。
3.
The hard black films has been prepared by combining unbalanced magnetron sputtering with middle frequency twin targets magnetron sputtering, cathode arc and Hall ion source.
将中频孪生靶磁控溅射、非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积四种技术结合起来开发了复合镀膜工艺,制备了黑色硬质膜。
4) arc ion plating (AIP)
电弧离子镀
1.
Al-O-N and Cr-O-N thin films were deposited on superalloy DSM11 by arc ion plating (AIP).
采用电弧离子镀方法在高温合金DSMll基材上沉积Al-O-N和Cr-O-N薄膜,研究了不同O_2,N_2流量对薄膜相结构的影响以及高温下DSMll/NiCoCrAlY,DSMll/Al-O-N/NiCoCrAlY和DSMll/Cr-O-N/NiCoCrAlY体系的元素互扩散行为。
2.
Ni-Co-Cr-Al-Y-Si-B coatings were deposited on Ni base superalloys DZ125 and DSM11 by arc ion plating (AIP).
采用电弧离子镀技术在DZ125和DSM11两种镍基高温合金基材上沉积Ni-Co-Cr-Al-Y-Si-B涂层,研究了高温合金基材及其Ni-Co-Cr-Al-Y-Si-B涂层在900℃的75％Na2SO4+25％K2SO4熔盐中的热腐蚀行为。
3.
Cr-O-N films with different chemical composition were deposited using arc ion plating (AIP) between NiCoCrAlY coatings and the DSM11 substrate as diffusion barriers.
采用电弧离子镀技术在NiCoCrAlY涂层与高温合金基材DSMll间沉积不同成分的Cr-O-N薄膜作为扩散阻挡 层,研究了900℃下氧化1400 h后DSMll／Cr-O-N／NiCoCrAlY体系中Cr-O-N层阻挡合金元素互扩散的行为以及阻 挡层对涂层氧化动力学曲线的影响。
5) Arc Discharge Ion Plating
电弧放电离子镀
6) cathodic arc ion plating
阴极电弧离子镀
1.
Corrosion behavior of ZrN gradient and Zr/ZrN multilayer coatings deposited by cathodic arc ion plating
阴极电弧离子镀ZrN梯度膜和Zr/ZrN多层膜的腐蚀特性
补充资料：等离子电弧重熔
等离子电弧重熔
plasma arc remelting
熔(E SR)优点的等离子熔炼技术. 1963年美国联合碳化物(Union Carbide)公司下 属的林德(Linde)公司研制了两台实验型PAR炉，分 别装有1支和2支等离子体发生琴(即等离子枪)，均 采用立式水冷结晶器。同年，捷克斯洛伐克也用类似炉 子进行了试验研究。从70年代开始前苏联和日本等国 进行了大量的研究工作并将其应用于工业生产。乌克 兰巴顿电焊研究所在70年代就研制了PAR的系列设 备。最大炉子的功率为18ookw，采用6支等离子枪， 可生产直径达65omm的5t钢锭。日本大同特殊钢公 司于1972年开始进行PAR技术的试验，先后建成 25kg和50kg的试验炉并称之为PPC炉，1982年建成 了2t的工业炉。 设备主要包括1个或多个等离子枪、电极及其 升降装置、合金及其他炉料的加料装置、水冷铜结晶 器、抽锭装置、供水和供气系统、电源及供电回路等。图 1是两种典型的PAR炉的设备示意图。根据等离子气 体种类、电源和枪的种类，结晶器结构和安装方式的不 同具有不同的设备类型。图2归纳了PAR在设备及工 作条件的各种不同方式。等离子枪一般为转移弧型，可 采用直流、交流或在交流电上附加直流操作。由于枪内 阴极是钨及其合金制作，故通常是非自耗式的。中空阴 极自耗式枪和等离子电子束枪是两种特殊情况。大多 数PAR炉采用立式结晶器。也有的采用卧式结晶器或 带由旋转辊组成的卧式结晶器，其优点是可降低对炉 料的形状和化学成分的均匀性要求。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条