1) multi-arc ion plating
多弧离子镀
1.
Wear resistance of hard coatings plated on 45 steel substrate by multi-arc ion plating;
45~#钢多弧离子镀硬质涂层的耐磨性
2.
Preparation and ultra micro-hardness of TiN/AlN nano-multilayer deposited by multi-arc ion plating;
多弧离子镀制备TiN/AlN纳米多层膜及其超硬效应
3.
Research on technology of TiN/Cu superhard nanocomposite films prepared by multi-arc ion plating;
多弧离子镀制备TiN/Cu纳米复合超硬膜的工艺研究
2) multi arc ion plating
多弧离子镀
1.
Ti,Cr)N films were deposited using TG 6B multi arc ion plating machine.
用多弧离子镀膜机 ,以W 6Mo5Cr4V2高速钢为基体材料 ,镀覆 (Ti,Cr)N多元膜 ,研究了多弧离子镀工艺对膜层性能的影响 ,确定了最佳镀膜工艺参数 ,探讨了多元膜层的强化机理。
2.
TiN films were prepared on copper based Cr substrates by multi arc ion plating.
使用多弧离子镀在铜基镀Cr的衬底上制备TiN薄膜 ,借助表面分析技术研究了不同温度下离子镀TiN与Cr/Cu接触的界面与表面性质 。
3) arc ion plating
多弧离子镀
1.
Ti70Al30N and graded(Ti,Al)N coatings were deposited on 1Cr11Ni2W2MoV martensitic stainless steel by arc ion plating.
采用多弧离子镀技术在马氏体不锈钢1Cr11Ni2W2MoV表面分别沉积Ti70Al30N及梯度(Ti,Al)N涂层。
2.
A NiCoCrAlY coating was deposited on a Ni-base superalloy K417G by arc ion plating.
用多弧离子镀在镍基高温合金K417G上制备了NiCoCrAlY涂层,对涂层进行了1050℃真空退火4小时、粉末包覆渗铝、1100℃下预氧化1小时等后续预处理;研究了涂层在1000℃下的高温氧化行为。
3.
The cavitation erosion behavior of TiN, CrN and (Ti,Cr)N hard coatings produced by arc ion plating on the surface of grey cast iron was studied with an ultrasonic cavitation erosion testing apparatus and a scanning electron microscope.
利用磁致伸缩振动空蚀试验装置 ,研究了灰口铸铁表面多弧离子镀 Ti N、Cr N及 (Ti,Cr) N硬质膜的抗空蚀性能 。
4) multi-arc ion-plating
多弧离子镀
1.
Anticorrosivity of Ti-Cr-N films deposited on ZL201 aluminum alloy by multi-arc ion-plating;
ZL201铝合金多弧离子镀涂层的耐腐蚀性能的研究
2.
Ti(C,N)-based cermets were coated with a TiN/TiAlN coating using multi-arc ion-plating technology.
采用多弧离子镀技术在Ti(C,N)基金属陶瓷基体上沉积了TiN/TiAIN涂层,通过扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、原子力显微镜等分析技术对其显微组织、成分、相结构、粗糙度及涂层与基体间的结合强度进行了分析。
3.
The structure and phase of nickel films deposited by the multi-arc ion-plating on ZL201 aluminum alloy were analyzed by SEM and XRD.
用多弧离子镀的方法在ZL201铝合金表面制备了一层镍涂层,并用扫描电镜和X射线衍射仪对涂层表面形貌和物相进行了分析,结果表明:涂层表面存在着大量宏观颗粒,镍涂层呈现(200)晶面择优取向。
5) multi-arc ion coating
多弧离子镀
1.
Effect of plasma parameters on thin film deposition during multi-arc ion coating;
多弧离子镀沉积过程中等离子体参数对薄膜沉积的影响
2.
Study on light absorption properties of nitrogen-doped titanium dioxide thin films prepared by multi-arc ion coating;
多弧离子镀镀制掺氮二氧化钛薄膜及其光吸收特性的研究
6) vacuum arc deposition (VAD)
真空多弧离子镀
补充资料：离子镀
分子式：
CAS号：
性质：镀料和镀件置于真空室中，在一定真空度下从针形阀通入惰性气体(通常为氩气)，使真空度保持在0.1～1Pa。接通负高压，使蒸发源(镀料；阳极)和镀件(阴极)之间放电，建立低压气体放电的等离子区和阴极区。然后将蒸发源通电加热，使镀料金属气化进入等离子区。在高速电子轰击下，金属气体一部分被电离并在电场作用下被加速，射在镀件表面而形成镀层。离子镀的主要特点是镀层均匀，附着力好，可用于装饰、表面硬化、电子元器件用的金属或化合物镀层、光学用镀层等。
CAS号：
性质：镀料和镀件置于真空室中，在一定真空度下从针形阀通入惰性气体(通常为氩气)，使真空度保持在0.1～1Pa。接通负高压，使蒸发源(镀料；阳极)和镀件(阴极)之间放电，建立低压气体放电的等离子区和阴极区。然后将蒸发源通电加热，使镀料金属气化进入等离子区。在高速电子轰击下，金属气体一部分被电离并在电场作用下被加速，射在镀件表面而形成镀层。离子镀的主要特点是镀层均匀，附着力好，可用于装饰、表面硬化、电子元器件用的金属或化合物镀层、光学用镀层等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条