1) hot etch technique
热蚀刻法
3) wet etching
湿法刻蚀
1.
Research on K9 glass wet etching for MOEMS devices;
应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究
2.
Study on the deep wet etching of the silicon for MEMS;
MEMS中硅的深度湿法刻蚀研究
3.
Influence of wet etching on the morphologies of Si patterned substrates and ZnO epilayers
湿法刻蚀对Si基片孔点阵及ZnO外延薄膜周期形貌的影响
4) dry etching
干法刻蚀
1.
Effect of dry etching on light emission of InAsP/InP SMQWs;
干法刻蚀影响应变量子阱发光的机理研究
2.
Research of dry etching simulator in micromachining;
微加工干法刻蚀工艺模拟工具的研究现状
3.
Research of CCl_2F_2 plasma dry etching InSb-In thin film;
CCl_2F_2等离子体干法刻蚀InSb-In薄膜的研究
6) wet-etching
湿法刻蚀
1.
Textured ZnO:B film with(110)peak was fabricated by MOCVD and CH3COOH wet-etching technique was proposed to treat the film surface.
本文制备出(110)峰取向的绒面结构MOCVD-ZnO:B薄膜并提出CH3COOH湿法刻蚀的表面处理技术。
2.
And some Preliminary Studies have been done to the wet-etching of the thin film.
通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研究。
补充资料：热光热透镜法
分子式：
CAS号：
性质： 又称激光热透镜光度法，简称热光热透镜法。应用激光束使试样产生热效应进行元素痕量分析的一种技术。基本原理是激光束射向置于溶剂中试样上，试样吸收光能，通过无辐射弛豫而转化为热能(或称加热)，使试样溶液以激光束为中心形成很强的温度径向梯度分布，导致溶液折射指数的径向梯度分布；此时试样相当于一个透镜，即所谓热透镜效应，其大小，可测定光束中心部位光强的减小来量度。试样可进行萃取使欲测元素分离或用螯合剂生成螯合物或离子缔合物再进行激光束加热，以提高选择性。分析装置有多种形式，大多用一种激光束如氪离子(Kr+)激光器、氦-氖激光器或脉冲可调染料激光器发射的某一波长，可同时作为加热光束和探测光束；亦有用双光束如用脉冲染料激光束作为试样的加热光束，用非聚焦型氦-氖激光束作为探测光束。本法灵敏度比一般光谱高。已用于稀土、金属元素在地表水、化学处理后的排水及其他各种试样中的痕量分析。
CAS号：
性质： 又称激光热透镜光度法，简称热光热透镜法。应用激光束使试样产生热效应进行元素痕量分析的一种技术。基本原理是激光束射向置于溶剂中试样上，试样吸收光能，通过无辐射弛豫而转化为热能(或称加热)，使试样溶液以激光束为中心形成很强的温度径向梯度分布，导致溶液折射指数的径向梯度分布；此时试样相当于一个透镜，即所谓热透镜效应，其大小，可测定光束中心部位光强的减小来量度。试样可进行萃取使欲测元素分离或用螯合剂生成螯合物或离子缔合物再进行激光束加热，以提高选择性。分析装置有多种形式，大多用一种激光束如氪离子(Kr+)激光器、氦-氖激光器或脉冲可调染料激光器发射的某一波长，可同时作为加热光束和探测光束；亦有用双光束如用脉冲染料激光束作为试样的加热光束，用非聚焦型氦-氖激光束作为探测光束。本法灵敏度比一般光谱高。已用于稀土、金属元素在地表水、化学处理后的排水及其他各种试样中的痕量分析。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条