3) Topochemistry
[,tɔpə'kemistri]
局部化学
1.
It is proposed that the decomposition of AP crystal obeys the process of “topochemistry ” and it is explained that there are two steps in the decomposition of the coarse grain size.
用差热分析及其与FTIR联用技术研究了两种粒度高氯酸铵 (AP)的热分解过程 ,提出了AP晶体分解的“局部化学”现象 ,通过FTIR实时跟踪检测气体产物 ,并结合文献报道 ,提出了AP两个阶段分解的不同机理。
4) localized chemical deposition
局域化学镀覆
5) Partial silver-plating
局部镀银
1.
A photolithograph technology is used to fabricate patterned fine lead frame, and the factor of partial silver-plating is discussed.
5A/dm~2时,可以得到表面光滑的镀层;电镀时间是控制镀层厚度的另外1个因素,当电镀时间为12min～16min时,将形成比较均匀的局部镀银层。
6) selective gold plating
局部镀金
1.
The selective gold plating for PGA370 high density ceramic packages;
PGA370高密度陶瓷封装局部镀金
补充资料：镀覆用化学品
分子式：
CAS号：
性质：在印制电路板生产中涉及到化学镀铜、电镀铜、电镀锡/铅、电镀金、电镀镍等许多镀覆工艺。在基板上镀覆金属镀层主要有以下作用：(1)在通孔上进行化学镀以使双面板正反面相连或使多层板各层相连；(2)电镀通孔或在板上电镀电路图形；(3)在电路上镀保护层以防其氧化并作为下道腐蚀工序的抗蚀镀层；(4)在印制板上镀覆接触键(插头座)。另外，在集成电路和电子元器件生产制造过程中也涉及许多镀覆工艺。镀覆化学品系指上述镀覆工艺使用的一系列化学镀液和化合物。化学镀液的技术性、专用性、配套性很强，同一类镀液各公司的配方不尽相同，镀液性能及其使用工艺对镀层的质量有很大影响。
CAS号：
性质：在印制电路板生产中涉及到化学镀铜、电镀铜、电镀锡/铅、电镀金、电镀镍等许多镀覆工艺。在基板上镀覆金属镀层主要有以下作用：(1)在通孔上进行化学镀以使双面板正反面相连或使多层板各层相连；(2)电镀通孔或在板上电镀电路图形；(3)在电路上镀保护层以防其氧化并作为下道腐蚀工序的抗蚀镀层；(4)在印制板上镀覆接触键(插头座)。另外，在集成电路和电子元器件生产制造过程中也涉及许多镀覆工艺。镀覆化学品系指上述镀覆工艺使用的一系列化学镀液和化合物。化学镀液的技术性、专用性、配套性很强，同一类镀液各公司的配方不尽相同，镀液性能及其使用工艺对镀层的质量有很大影响。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条