1) SIMS
二次离子质谱
1.
Qualitative Analysis Method of Inorganic Elements on Coal Surface by SIMS;
煤表面二次离子质谱分析的无机定性分析方法
2.
A Quantitative SIMS Depth Profiling Method Calibrated by a Modified ISS Technique;
一种利用变通的离子散射谱测量进行浓度定标的二次离子质谱深度剖析定量方法
3.
Application of SIMS in GaAs process;
二次离子质谱技术在砷化镓工艺中的应用
2) secondary ion mass spectrometry
二次离子质谱
1.
The dopant profiles in silicon sample implanted by BF 2 are measured using secondary ion mass spectrometry (SIMS) and spreading resistance probe (SRP) techniques.
利用二次离子质谱和扩展电阻探针技术测量了硅中注入硼的深度分布 。
3) secondary ion mass spectroscopy
二次离子质谱
1.
Investigation of the poly-Si/SiO2interface using secondary ion mass spectroscopy;
多晶硅/氧化硅界面的二次离子质谱分析
2.
5 bulk metallic glass under high pressure is investigated in supercooled liquid region by ion implantation combined with secondary ion mass spectroscopy.
通过离子注入结合二次离子质谱分析方法 ,研究了高压下Co在Zr4 6 。
4) Secondary Ion Mass Spectrometry(SIMS)
二次离子质谱
1.
But by Secondary Ion Mass Spectrometry(SIMS) it can be measured, although the emission mechanics of the secondary ion is complex and the matrix effect is strong.
重掺砷硅单晶中杂质硼含量的控制是十分关键的,因无法用常规的红外光谱法测试,于是转而使用二次离子质谱法来测试。
2.
In the paper the structure and principle of the secondary ion mass spectrometry(SIMS) are reported,and its typical applications in the HgCdTe material and devices processing,especially in the measurement of the junction depth and the quantity analysis of trace impurity are introduced.
文章介绍了二次离子质谱仪的结构及其基本工作原理,并通过对典型应用的分析,介绍了二次离子质谱分析技术在高灵敏度碲镉汞红外焦平面探测器材料和器件制备工艺中的作用,特别是在结探监测和微量杂质监控方面所发挥的重要作用。
5) Secondary Ion Mass Spectroscopy
二次离子质谱(SIMS)
6) SIMS
二次离子质谱仪
1.
Al Ga In As/ In P strained and strain- compensated quantum well have grown by L P- MOCVD and the characters of the materials have been measured by DCD、Photoluminescence、SIMS.
用低压金属有机化学气相沉积 (L P- MOCVD)设备生长了 Al Ga In As压应变量子阱材料、应变补偿量子阱材料并进行了材料特性的测试 ,通过二次离子质谱仪 (SIMS)的测试讨论了材料中氧含量对材料特性的影响 ,通过采用高纯原料和纯化载气 ,生长出了较高质量的 Al Ga In As应变量子阱材料 :氧含量小 ,光荧光强度大 (2 5 m W,PL=0 。
补充资料：二次离子质谱
分子式：
CAS号：
性质：将一束离子溅射表面，用质谱仪分析所产生的二次离子，以测定表面成分，有较高的灵敏度。此质谱称为二次离子质谱。
CAS号：
性质：将一束离子溅射表面，用质谱仪分析所产生的二次离子，以测定表面成分，有较高的灵敏度。此质谱称为二次离子质谱。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条