1) TiO_2 film
TiO_2薄膜
1.
Study on Photocatalysis of TiO_2 Film and Its Application in COD Determination;
TiO_2薄膜的光催化性能及其在化学需氧量测定中的应用研究
2.
Nanometer scale TiO_2 films are prepared on glass substrates with film thickness less than 100nm by sol-gel process combining with spin-coating technology.
采用溶胶-凝胶法,利用旋涂技术在玻璃表面制备了膜厚小于100nm的纳米TiO_2薄膜,以去离子水和苯作为水和油模型,利用XRD、AFM系统研究了煅烧温度、粒径及膜厚对薄膜双亲性的影响。
3.
The synthesized TiO_2 films were characterized by X-ray diffraction(XRD),scanning electron microscopy(SEM)and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS).
凝胶法在铝基板表面制备了纳米晶TiO_2薄膜。
2) TiO_2 thin film
TiO_2薄膜
1.
Hydrophilic properties of Ag doped TiO_2 thin film;
掺银TiO_2薄膜的亲水特性
2.
Study on TiO_2 thin films for UV photodetector;
用于紫外光电导探测器的TiO_2薄膜研究
3.
The influence of La-doping on the properties of TiO_2 thin films
La掺杂对TiO_2薄膜性能的影响
3) TiO_2 thin films
TiO_2薄膜
1.
In this study,TiO_2 thin films were prepared by Sol-Gel method using titanium tetraisopropoxide as precursor.
通过溶胶-凝胶法,在玻璃基体上制备透明的TiO_2薄膜催化荆。
2.
The TiO_2 thin films and Fe-doped TiO_2 thin films on the surface of glass plate with antibacterial performance were prepared by soak-pulling method in TiO_2 sol, which was prepared by using TiCl_4 ethanol solution as a precursor.
以TiCl_4的乙醇溶液作为前驱体,采用溶胶-凝胶法制备TiO_2溶胶,用浸渍-提拉法在载玻片表面制成了具有抗菌作用的TiO_2薄膜以及铁掺杂TiO_2薄膜,考察了原菌液浓度、镀膜次数以及铁掺杂量对薄膜对大肠杆菌的抗菌性能的影响。
3.
Surface topographies of TiO_2 thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering technique for different annealed temperature are characterized by atomic force microscope.
用原子力显微镜观察经不同退火温度处理TiO_2薄膜的表面形貌,观察结果表明,随着退火温度的升高,颗粒不断长大,数目逐渐减少,表面粗糙度RMS从4。
4) TiO_2 films
TiO_2薄膜
1.
TiO_2 films were prepared by thermally oxidation of TiNi hydrogen storage alloys.
采用热氧化方法在TiNi合金表面制备了TiO_2薄膜,并考察了TiO_2／TiNi电极在KOH溶液中的光电化学性能。
2.
TiO_2 films are widely used in optical coating, microelectronic devices, and protective coatings owning to their high refractive index, transparent in the visible and near–infrared wavelength regions, high dielectric constant, very good wear resistance and stability.
TiO_2薄膜具有大的折射率和介电常数、在可见光和红外波段有具良好的透过率以及良好的耐磨性和热稳定性,因而被广泛应用于光学薄膜、微电子器件和保护涂层。
3.
Preparing TiO_2 films on the AZ31 Mg alloys substrate by LPD method is a novel surface modification method of the magnesium alloys.
将TiO_2薄膜沉积在镁合金产品上，使镁合金产品具有光催化效应，能够降解有机物，实现清洁除污、杀菌除臭等功能。
5) Tio2 thin films
TiO_2薄膜
1.
TiO2 thin films are prepared by RF magnetron sputtering on the bioglass substrates.
用射频磁控溅射法在生物玻璃基片上沉积TiO_2薄膜。
2.
The conductivity of nanometer TiO2 thin films was studied.
研究了在纳米厚度范围内,TiO_2薄膜的导电性与薄膜厚度和基底材料的关系。
6) Pd/TiO_2 films
Pd/TiO_2薄膜
补充资料：CaO-TiO2-SiO2 ceramics
分子式：
CAS号：
性质：在CaO-TiO2-SiO2三元系统中以CaSiO3与TiO2或以CaTiSiO5与CaTiO3为基料的陶瓷材料。其结构特点是两种晶相共存，性能受晶相比例影响。配比可在一定范围内调节。主要原料为碳酸钙、二氧化钛、二氧化硅，加入少量改性添加剂，经配料、磨细、混合、成型、烧成等工序获得制品，也可先用碳酸钙和二氧化硅高温下合成硅酸钙，用碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛高温下合成钛硅酸钙后再进行配料、烧成等，以确保两晶相共存。主要介电性能为：介电常数80～110，介质损耗角正切值(0.8～2.5)×10-4，介电常数温度系数(-450～+550)×10-6/℃。抗电温度(45～55)kV/mm，电阻率(1011～1012)Ω·cm。主要用作温度补偿型陶瓷电容器瓷料。
CAS号：
性质：在CaO-TiO2-SiO2三元系统中以CaSiO3与TiO2或以CaTiSiO5与CaTiO3为基料的陶瓷材料。其结构特点是两种晶相共存，性能受晶相比例影响。配比可在一定范围内调节。主要原料为碳酸钙、二氧化钛、二氧化硅，加入少量改性添加剂，经配料、磨细、混合、成型、烧成等工序获得制品，也可先用碳酸钙和二氧化硅高温下合成硅酸钙，用碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛高温下合成钛硅酸钙后再进行配料、烧成等，以确保两晶相共存。主要介电性能为：介电常数80～110，介质损耗角正切值(0.8～2.5)×10-4，介电常数温度系数(-450～+550)×10-6/℃。抗电温度(45～55)kV/mm，电阻率(1011～1012)Ω·cm。主要用作温度补偿型陶瓷电容器瓷料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条