1) thermal chemical vapour deposition polymerization(TCVDP)
热解化学气相沉积聚合(TCVDP)
2) CVD PyC
化学气相沉积热解炭
1.
Microstructure and Properties of Carbon Foams Reinforced by CVD PyC;
将CF-1经过10h和70h化学气相沉积热解炭(CVD PyC)处理后得到炭泡沫CF-1-PC1和CF-1-PC2。
3) chemical vapor deposition polymerization
化学气相沉积聚合
1.
A new kind of dimmer of 4-succinyl- paracyclophane(DPX-COCH2CH2COOH) was synthesized,and polymerized by chemical vapor deposition polymerization(CVDP).
合成了一种新的丁酸酰基取代对亚苯基二亚甲基二聚体,用化学气相沉积聚合法制备了聚丁酸酰基取代对亚苯基二亚甲基(PPX-COCH2CH2COOH)膜,采用FTIR、NMR的方法证实了其化学结构,采用元素分析方法测定苯环上丁酸酰基的取代程度为4。
2.
Poly(p-xylylene)(PPX) was prepared by chemical vapor deposition polymerization(CVDP).
采用化学气相沉积聚合(CVDP)的方法制备了聚对亚苯基二亚甲基(PPX)涂层,再通过发烟硫酸的化学表面改性成功地在PPX的芳香环上引入磺酸基团,可作为进一步功能化的反应基团。
4) thermal chemical vapor deposition(TCVD)
热化学气相沉积
5) hot filament chemical vapor deposition
热丝化学气相沉积
1.
Study of diamond film by direct current cathode-hot filament chemical vapor deposition;
直流等离子体-热丝化学气相沉积金刚石薄膜的研究
2.
Diamond films are deposited on tungsten carbide YG6 by hot filament chemical vapor deposition.
采用热丝化学气相沉积法在YG6硬质合金基体上制备出了金刚石薄膜,研究了基片与热丝间的距离以及负偏压对金刚石薄膜的生长取向和内应力的影响。
3.
The existed hot filament chemical vapor deposition(HFCVD) system is improved.
首先对热丝化学气相沉积(Chem ica l vapor depos ition,CVD)系统进行改造,设计了在真空室外对室内试样进行操纵的机械手系统和储料台,实现了一次热丝碳化后完成多个不同工艺条件下试样的连续沉积。
6) HFCVD
热丝化学气相沉积
1.
Polycrystalline silicon thin films were prepared by hot-filament chemical vapor deposition(HFCVD) on glass at low-temperatures.
采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜。
2.
Two-dimension coupled model of the temperature filed, velocity field and density field was developed according to the geometry and technology parameters in hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) diamond film.
根据热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石薄膜的几何特点和工艺参数,建立了该系统的二维温度场、速度场和密度场 的耦合模型。
3.
When the relative parameters of hot filaments were fixed at the optimal values, the irradiance distribution and the temperature distribution of substrate were simulated during the growing process HFCVD diamond films.
热丝化学气相沉积（HFCVD）生长金刚石膜过程中,在热丝相关工艺参数取优化值的前提下,对热辐射平衡体系中衬底表面辐照度和衬底温度的空间分布进行了模拟计算,探讨了衬底横向热传导对衬底温度分布的影响。
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条