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1)  p-type pdy-Si
p型多晶硅
2)  phosphorus doped polysilicon
掺P多晶硅
1.
Process of LPCVD polysilicon and phosphorus doped polysilicon;
LPCVD生长结构层多晶硅和掺P多晶硅的工艺
3)  p type microcrystalline silicon
p型微晶硅
1.
p type microcrystalline silicon(μc-Si∶H) thin films and flexible solar cells were then deposited after the p/i interface treated.
在此基础上,制备p型微晶硅(μc-Si∶H)薄膜与柔性太阳能电池。
4)  p-Silicon (100)
p型单晶硅(100)
5)  p-type μc-Si:H thin films
p型微晶硅薄膜
1.
Using plasma enhanced chemical vapor deposition (RF-PECVD) technique p-type μc-Si∶H thin films with the thickness of about 40nm are prepared on the glass substrate when B2H6 is used as dopant.
利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以B2H6为掺杂剂,在玻璃衬底上制备了厚度为40nm左右的p型微晶硅薄膜。
6)  P-type high-resistance silicon single-crystal
P型高阻硅单晶
补充资料:[styrene-(2-vinylpyridine)copolymer]
分子式:
分子量:
CAS号:

性质:学名苯乙烯-2-乙烯吡啶共聚物。微黄色粉末或透明小颗粒晶体。无臭,无味。不溶于水,溶于酸、乙醇、丙酮、氯仿。有抗水、防潮性能,适用于多种药片的包衣等。

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