1) double-side photolithography
双面光刻
1.
A combination of double-side photolithography and electrochemical etch was then performed to precisely define the length of probes and the shape of probe tips.
该方法采用MEMS工艺制作的玻璃模具实现钨丝阵列的精密有序排列,同时,在钨丝电极表面涂覆一层光敏性的聚酰亚胺作为绝缘层,结合"双面光刻"技术和电化学腐蚀技术实现电极位点大小和电极丝几何尺寸的精确控制。
2) surface profile of lithography
光刻面形
4) spherical surface lithography
球面光刻
5) dual layer resist
双层光刻胶
6) Big Area Lithography
大面积光刻
1.
Technique of Achieving Big Area Lithography By Using Step&scan of Light Sourse;
光源步进扫描实现大面积光刻
补充资料：面形
1.脸形。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条