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1)  Dual-patterning Exposure
双重图形光刻
2)  Dual Pattern Etching
双重图形蚀刻
3)  etched pattern
光刻图形
例句>>
4)  microlithography pattern
微光刻图形
1.
A new algorithm which is used to transform center-hollowed polygons of CIF format in microlithography pattern into rectangles of PG3600 format is presented.
给出了一种微光刻图形CIF格式的中间挖空多边形切割成PG3600格式所需矩形的新算法。
5)  photolitho-pattern
光刻图形化
6)  resist image
光刻胶图形
补充资料：双重
1.两层﹔两方面。多用于抽象事物。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条