1) photo-etching
光蚀剂
2) photoresist
[,fəutəuri'zist]
光阻蚀剂
3) photoresis
光抗蚀剂
4) flat etchant
光亮微蚀剂
1.
We developed a flat etchant PM-05 in view of this demand.
随着欧盟ROSH指令的实施,印制电路板(PCB)的可焊性涂覆层由热风整平(HASL)工艺转向化学沉镍金、化学沉锡和化学沉银工艺,同时表面安装技术要求化学镀层具有很高的平坦性,针对这一需求我们开发了一种铜面光亮微蚀剂PM-05。
5) Photoresists
光致抗蚀剂
1.
The importance of photoresists in microelectronic industry is described in this review,emphasizing the characteristics of polysilane photoresists and the developing situation of ultra violet, deep ultraviolet, X-ray,electron-beam polysilane photoresists etc.
概述了光致抗蚀剂在微电子工业中的作用,着重介绍了聚硅烷光致抗蚀剂的特点,以及聚硅烷紫外、深紫外、X射线、电子未等抗蚀剂的发展状
2.
Polysilynes, a new kind of high-performance materials, are reviewed on the present investigation of their synthesis, structure, reactions and applications as semiconductors, conductive SiC thin films, optical waveguides and photoresists.
本文综述了一类新型的高功能材料——聚硅炔的合成、结构、反应以及作为半导体、导电性SiC薄膜、光学波导器和光致抗蚀剂的应用的研究现状。
6) photoresist
[,fəutəuri'zist]
光致抗蚀剂
1.
Preparation of Cresol-formaldehyde Resins Used for Making Positive Photoresist;
正性光致抗蚀剂用酚醛树脂的制备
2.
Research progress and application status of UV positive photoresist;
紫外正性光致抗蚀剂的研究进展及应用现状
3.
Experiments on two-photon Optical storage in photoresist;
以光致抗蚀剂为记录介质的双光子存储实验
补充资料：辅助光亮剂
分子式：
CAS号：
性质：辅助光亮剂除具有初级光亮剂的某些作用外，还能防止或减少针孔，与初级和次级光亮剂配合，加快出光和整平速度，对低电流密度区镀层的光亮起良好作用，并能降低其他光亮剂的消耗。辅助光亮剂具有不饱和的脂族链，磺化基团-SO2-不一定直接与不饱和碳相连。例如乙烯磺酸钠(CH2＝CHSO3Na)、烯丙基磺酸钠(CH2＝CHCH2SO3Na)、3-氯-2-丁烯-1-磺酸钠(CH3CHClCH=CHSO3Na)、苯乙烯磺酸钠(C6H5CH=CHSO3Na)、丙炔磺酸钠(CH=CCH2SO3Na)等。目前用得较多的是烯丙基磺酸钠。
CAS号：
性质：辅助光亮剂除具有初级光亮剂的某些作用外，还能防止或减少针孔，与初级和次级光亮剂配合，加快出光和整平速度，对低电流密度区镀层的光亮起良好作用，并能降低其他光亮剂的消耗。辅助光亮剂具有不饱和的脂族链，磺化基团-SO2-不一定直接与不饱和碳相连。例如乙烯磺酸钠(CH2＝CHSO3Na)、烯丙基磺酸钠(CH2＝CHCH2SO3Na)、3-氯-2-丁烯-1-磺酸钠(CH3CHClCH=CHSO3Na)、苯乙烯磺酸钠(C6H5CH=CHSO3Na)、丙炔磺酸钠(CH=CCH2SO3Na)等。目前用得较多的是烯丙基磺酸钠。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条