1) thin-film amorphous silicon cell
薄膜非晶硅电池
2) amorphous silicon thin-film solar cell
非晶硅薄膜太阳能电池
1.
This paper introduces technical development status and market conditions of amorphous silicon thin-film solar cell and supporting equipment,and in the light of the conditions of demand on our country\'s thin-film solar cell industry,probes into the paths for developing thin-film solar cell industry.
介绍了非晶硅薄膜太阳能电池和支撑设备的技术发展现状和市场情况,针对我国薄膜太阳能电池产业的需求情况,探讨了发展薄膜太阳能电池产业的途径。
3) microcrystalline silicon thin film solar cells
微晶硅薄膜太阳电池
1.
Investigation of improved conversion efficiency of microcrystalline silicon thin film solar cells;
提高微晶硅薄膜太阳电池效率的研究
2.
The structure of microcrystalline silicon thin film solar cells prepared by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition,is studied.
对甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备的微晶硅薄膜太阳电池进行了研究。
4) microcrystalline silicon solar cells
微晶硅薄膜太阳电池
1.
Series of microcrystalline silicon solar cells were fabricated by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition at different silane concentrations,discharge powers and total flow rate.
本文主要采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备了不同硅烷浓度、辉光功率和反应气体流量的单结微晶硅薄膜太阳电池。
2.
N-type phosphors doping layer as the window layer of microcrystalline silicon solar cells has been fabricated using conversional radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition.
采用常规的射频等离子体增强化学气相沉积技术制备了可以用于微晶硅薄膜太阳电池的n型的掺杂窗口层材料。
6) a-Si thin film
非晶硅薄膜
1.
An a-Si thin film diodes with big current densities and high on/off ratios was presented by PECVD technology.
报道了采用PECVD薄膜沉积技术制备的大电流、高开关比非晶硅薄膜二极管,在制备工艺温度低于200℃下,获得正向电流密度大于50A/cm-2,±3V偏压时开关比接近105的优质非晶硅薄膜二极管,完全符合三维集成电路(3D IC)中三维只读存储器(3D ROM)的要求。
补充资料：非晶硅
分子式：
CAS号：
性质：又称无定形硅。单质硅的一种形态。棕黑色或灰黑色的微晶体。硅不具有完整的金刚石晶胞，纯度不高。熔点、密度和硬度也明显低于晶体硅。化学性质比晶体硅活泼。可由活泼金属(如钠、钾等)在加热下还原四卤化硅，或用碳等还原剂还原二氧化硅制得。结构特征为短程有序而长程无序的α-硅。纯α-硅因缺陷密度高而无法使用。采用辉光放电气相沉积法就得含氢的非晶硅薄膜，氢在其中补偿悬挂链，并进行掺杂和制作pn结。非晶硅在太阳辐射峰附近的光吸收系数比晶体硅大一个数量级。禁带宽度1.7～1.8eV，而迁移率和少子寿命远比晶体硅低。现已工业应用，主要用于提炼纯硅，制造太阳电池、薄膜晶体管、复印鼓、光电传感器等。
CAS号：
性质：又称无定形硅。单质硅的一种形态。棕黑色或灰黑色的微晶体。硅不具有完整的金刚石晶胞，纯度不高。熔点、密度和硬度也明显低于晶体硅。化学性质比晶体硅活泼。可由活泼金属(如钠、钾等)在加热下还原四卤化硅，或用碳等还原剂还原二氧化硅制得。结构特征为短程有序而长程无序的α-硅。纯α-硅因缺陷密度高而无法使用。采用辉光放电气相沉积法就得含氢的非晶硅薄膜，氢在其中补偿悬挂链，并进行掺杂和制作pn结。非晶硅在太阳辐射峰附近的光吸收系数比晶体硅大一个数量级。禁带宽度1.7～1.8eV，而迁移率和少子寿命远比晶体硅低。现已工业应用，主要用于提炼纯硅，制造太阳电池、薄膜晶体管、复印鼓、光电传感器等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条