1) High frequency and low bias voltage plasma immersion and ion implantation
低偏压高频等离子浸没离子注入
2) high frequency low voltage plasma immersion ion implantation
高频低电压等离子体浸没离子注入
1.
AISI304 stainless steel samples were treated with nitrogen ions by high frequency low voltage plasma immersion ion implantation (HLPIII) technique.
采用高频低电压等离子体浸没离子注入 (HL PIII)技术对 AISI30 4不锈钢表面进行了氮离子注入处理 ;用球 -盘摩擦磨损试验机考察了注入处理后钢表面改性层的摩擦磨损性能 ;用扫描电子显微镜 (SEM)、俄歇电子能谱仪(AES)和 X射线衍射仪 (XRD)考察了改性层的相组成、N元素的深度分布及磨损机理 。
3) high frequency and low voltage plasma immersion ion implantation
高频低压等离子体浸没离子注入
4) Plasma immersion ion implantation
等离子体浸没离子注入
1.
Surface modification process and mechanism of 9Cr18 bearing steel using nitrogen plasma immersion ion implantation;
9Cr18轴承钢氮等离子体浸没离子注入表面改性工艺及机理的研究
2.
Influence of pulse duration on deflecting electric field inner surface plasma immersion ion implantation;
脉冲宽度对偏转电场法内表面等离子体浸没离子注入的影响
3.
Development of plasma immersion ion implantation and surface strengthening technique;
等离子体浸没离子注入及表面强化工艺的进展
5) plasma immersion ion implantation(PIII)
等离子体浸没离子注入
1.
Plasma immersion ion implantation(PIII) for a planar target was simulated using 2D particle-in-cell(PIC) model.
采用二维元胞粒子模型(PIC),模拟了一个完整脉冲时段内,等离子体浸没离子注入平板靶的过程。
6) plasma immersion ion implantation & deposition (PIII&D)
等离子浸没式离子注入
补充资料：电感耦合高频等离子体焰炬
分子式：
CAS号：
性质：由高频感应激发试样的发射光谱分析用光源。由高频发生器与感应圈、炬管与供气系统、试样引入系统组成。等离子体温度达16 000K，激发能力强，是发射光谱分析的理想光源。
CAS号：
性质：由高频感应激发试样的发射光谱分析用光源。由高频发生器与感应圈、炬管与供气系统、试样引入系统组成。等离子体温度达16 000K，激发能力强，是发射光谱分析的理想光源。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条