1) plasma immersion ion implantation (PⅢ)
等离子体浸没式离子注入(PⅢ)
2) Plasma immersion ion implantation(PⅢ)
等离子体浸没离子注入(PⅢ)
3) Plasma immersion ion implantation and deposition (PIII&D)
等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ&D)
4) plasma immersion ion implantation & deposition (PIII&D)
等离子浸没式离子注入
5) Plasma immersion ion implantation
等离子体浸没离子注入
1.
Surface modification process and mechanism of 9Cr18 bearing steel using nitrogen plasma immersion ion implantation;
9Cr18轴承钢氮等离子体浸没离子注入表面改性工艺及机理的研究
2.
Influence of pulse duration on deflecting electric field inner surface plasma immersion ion implantation;
脉冲宽度对偏转电场法内表面等离子体浸没离子注入的影响
3.
Development of plasma immersion ion implantation and surface strengthening technique;
等离子体浸没离子注入及表面强化工艺的进展
6) plasma immersion ion implantation(PIII)
等离子体浸没离子注入
1.
Plasma immersion ion implantation(PIII) for a planar target was simulated using 2D particle-in-cell(PIC) model.
采用二维元胞粒子模型(PIC),模拟了一个完整脉冲时段内,等离子体浸没离子注入平板靶的过程。
补充资料：离子方程式
分子式：
CAS号：
性质： 用实际参加反应的离子符号来表示离子反应的反应式。如酸碱反应：NaOH+HCl=NaCl+H2O；2KOH+H2SO4=K2SO4+2H2O，上述化学反应的离子方程式是H++OH-=H2O。离子方程式的主要特点是，它不仅表示了某种离子所发生的某一反应，而且还表示了同一类型的离子反应。
CAS号：
性质： 用实际参加反应的离子符号来表示离子反应的反应式。如酸碱反应：NaOH+HCl=NaCl+H2O；2KOH+H2SO4=K2SO4+2H2O，上述化学反应的离子方程式是H++OH-=H2O。离子方程式的主要特点是，它不仅表示了某种离子所发生的某一反应，而且还表示了同一类型的离子反应。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条