1) etch figures(s)
蚀刻图
2) pattern etching
图形刻蚀
1.
Plasma pattern etching of cubicβ- Si C single crystalline thin films via atmospheric pressure chemical vapor deposition has been studied systematically in CF4+ O2 mixtures.
采用等离子体刻蚀工艺 ,以四氟化碳 ( CF4 )和氧气 ( O2 )的混合气体作为刻蚀气体 ,对常压化学气相淀积工艺制备的β- Si C单晶薄膜进行了系统的图形刻蚀研究。
3) etched pattern
蚀刻图形
4) Dual Pattern Etching
双重图形蚀刻
5) Electrolytic etching and Patterning
电解刻蚀图纹化
6) A design etched on a plate.
蚀刻成的图案
补充资料：蚀刻
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：用氢氟酸侵蚀玻璃的过程。采用浓度不同的氢氟酸，可以获得不同程度的蚀刻。一般是半透明呈雾状。用于刻划温度计、滴定管、量筒、量管等计量器上的刻度以及玻璃上的花纹图案等，也用于制造覆霜电灯泡（俗名磨砂灯泡）。用氢氟酸处理玻璃表面使成毛面，特别称毛面蚀刻（frosting)。
分子量：
CAS号：
性质：用氢氟酸侵蚀玻璃的过程。采用浓度不同的氢氟酸，可以获得不同程度的蚀刻。一般是半透明呈雾状。用于刻划温度计、滴定管、量筒、量管等计量器上的刻度以及玻璃上的花纹图案等，也用于制造覆霜电灯泡（俗名磨砂灯泡）。用氢氟酸处理玻璃表面使成毛面，特别称毛面蚀刻（frosting)。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条