1) ch-pit counting method
蚀刻坑计数法
2) pit-etching
蚀坑法
1.
The formation mechanism of the pit-etching and the process of calculating were introduced and the re- crystallization texture of HL01 aluminum alloy sheet after annealing were evaluated by means of the pit-etching and X-ray diffraction ODF (orientation distribution function) 'figure.
介绍了蚀坑法的原理和计算方法,并用蚀坑法和X射线衍射ODF(取向分布函数)图分别测定了HL01铝合金板退火后的再结晶织构。
2.
By means of the pit-etching and Orientation Distribution Function recrystallization texture was determined.
本文分别用蚀坑法和取向分布函数法测定了铝合金板材的织构,系统研究了形变量、退火条件、Fe元素含量对再结晶织构和力学性能的影响规律。
3) Pit etching
蚀坑法
1.
Pit etching research about rolling and annealing treatment on texture in non-oriented silicon steel;
蚀坑法研究冷轧及退火工艺对无取向硅钢织构演变的影响
2.
The effects of various annealing and the content of Ce on cube texture of high-purity aluminium foils are investigated by means of pit etching in this article.
用蚀坑法研究了不同热处理工艺以及Ce含量对铝箔立方织构的影响,结果表明:Ce含量较高时,中间退火300℃ 2 h和成品退火150℃ 3 h+540℃1 h条件下,立方织构含量最高,分布均匀;Ce含量较低时,在390℃ 2 h中间退火和150℃ 3 h+540℃ 1 h成品退火条件下,立方织构含量较高;在一次冷轧前进行400℃ 2 h退火样品的立方织构含量高于未退火的样品。
4) etch pits method
腐蚀坑法
5) etching function
刻蚀函数
6) etching parameter
蚀刻参数
1.
The optimizing methods of main etching parameters, such as etching rate, uniformity and selectivity, were investigated by the orthogonal experiment, and these results can be used for setting main process parameters, adjusting them with a drifting from desired conditions, and optimizing etchings electivity.
阐述了二氧化硅干法蚀刻的原理和主要的蚀刻参数。
补充资料：蚀刻
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：用氢氟酸侵蚀玻璃的过程。采用浓度不同的氢氟酸，可以获得不同程度的蚀刻。一般是半透明呈雾状。用于刻划温度计、滴定管、量筒、量管等计量器上的刻度以及玻璃上的花纹图案等，也用于制造覆霜电灯泡（俗名磨砂灯泡）。用氢氟酸处理玻璃表面使成毛面，特别称毛面蚀刻（frosting)。
分子量：
CAS号：
性质：用氢氟酸侵蚀玻璃的过程。采用浓度不同的氢氟酸，可以获得不同程度的蚀刻。一般是半透明呈雾状。用于刻划温度计、滴定管、量筒、量管等计量器上的刻度以及玻璃上的花纹图案等，也用于制造覆霜电灯泡（俗名磨砂灯泡）。用氢氟酸处理玻璃表面使成毛面，特别称毛面蚀刻（frosting)。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条