3) ultraviolet exposure
紫外线曝光
4) Extreme ultraviolet lithography (EUVL)
极紫外线投影光刻
5) UV Exposure machine
紫外线曝光机
6) deep uv exposure
远紫外线曝光
补充资料:投影光刻
分子式:
CAS号:
性质:一种把图像投影在光敏材料上的方法。它可免于光学掩模版和光敏材料涂层的接触。
CAS号:
性质:一种把图像投影在光敏材料上的方法。它可免于光学掩模版和光敏材料涂层的接触。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条