1) step and repeat mask
步进重复曝光掩模
2) step and repeat exposure
步进重复曝光
4) step printing
步进式曝光
5) reduced mask printing
缩小掩模曝光
补充资料:重复
分子式:
CAS号:
性质:指在相同的实验条件下进行反复测定和测量。重复的目的是估计实验误差,提高平均值的测定精度。它是费歇尔(R.A.Fisher)提出的设计试验的三个基本原则之一,其他两个原则是局部控制与随机化。
CAS号:
性质:指在相同的实验条件下进行反复测定和测量。重复的目的是估计实验误差,提高平均值的测定精度。它是费歇尔(R.A.Fisher)提出的设计试验的三个基本原则之一,其他两个原则是局部控制与随机化。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条