1) high frequency excited plasma sputtering equipment
高频等离子溅射设备
2) plasma sputtering equipment
等离子溅射设备
3) high frequency sputtering equipment
高频溅射设备
5) RF sputtering equipment
射频溅射设备
6) High Target Utilization Plasma Sputtering(HiTUS)
高利用率等离子体溅射
补充资料:电感耦合高频等离子体焰炬
分子式:
CAS号:
性质:由高频感应激发试样的发射光谱分析用光源。由高频发生器与感应圈、炬管与供气系统、试样引入系统组成。等离子体温度达16 000K,激发能力强,是发射光谱分析的理想光源。
CAS号:
性质:由高频感应激发试样的发射光谱分析用光源。由高频发生器与感应圈、炬管与供气系统、试样引入系统组成。等离子体温度达16 000K,激发能力强,是发射光谱分析的理想光源。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条