1) im planted with low energy nitrogen ion beams
微波等离子体溅射
2) ECR sputtering method
电子回旋共振微波等离子体溅射
3) ECR sputtering
ECR微波等离子体反应溅射
4) MCECR plasma sputtering method
MCECR等离子体溅射
1.
Preparation of hard carbon films by MCECR plasma sputtering method;
采用MCECR等离子体溅射方法制备硬碳膜
5) plasma sputtering
等离子体溅射
1.
SrTiO_3(STO) films were prepared under the condition of room temperature by the mirror_confinement_type electron cyclotron resonance (MCECR) plasma sputtering.
在室温条件下 ,用封闭式电子回旋共振 (MCECR)等离子体溅射方法沉积了SrTiO3(STO)膜 。
6) plasma beam sputtering
等离子体束溅射
补充资料：电感耦合微波等离子体焰炬
分子式：
CAS号：
性质： 由微波感生、用于发射光谱分析的等离子体光源。将发生等离子体焰炬的石英管，置于微波谐振腔中，以2450MHz的微波激发。产生的光谱简单，背景低，耗气与耗电量小。
CAS号：
性质： 由微波感生、用于发射光谱分析的等离子体光源。将发生等离子体焰炬的石英管，置于微波谐振腔中，以2450MHz的微波激发。产生的光谱简单，背景低，耗气与耗电量小。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条