1) developer for negative resist
负型光刻胶显影剂
2) negative resist developer
负性光刻胶显影剂
3) wash liquid for positive resist
正型光刻胶显影剂
4) photoresist developer
光刻胶显影剂
5) negative photoresist
负型光刻胶
6) wash liquid for negative resist
负型光刻胶漂洗剂
补充资料:负型光刻胶显影剂
分子式:
CAS号:
性质:由混合烷烃经1.0μm过滤膜过滤制得。为无色透明液体,易挥发,能与苯类、三氯甲烷、油类等混合,不溶于水,易燃。用于负型光刻胶显影。
CAS号:
性质:由混合烷烃经1.0μm过滤膜过滤制得。为无色透明液体,易挥发,能与苯类、三氯甲烷、油类等混合,不溶于水,易燃。用于负型光刻胶显影。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条