1) tantalum dielectric film
钽基介电薄膜
2) tantalum thin-film circuit
钽薄膜电路
3) triecane dicarboxylic acid
钽基金刚石薄膜电极
4) tantalum nitride resistance film
氮化钽电阻薄膜
5) tantalum silicon resistance film
钽硅电阻薄膜
6) tantalum aluminium resistance film
钽铝电阻薄膜
补充资料:钽基介电薄膜
分子式:
CAS号:
性质:一种以氧化钽为主成分的介电薄膜。有纯氧化钽膜、掺杂钽基薄膜(掺氮、铝或硅)和钽基复合薄膜(如氧化钽-氧化硅膜、氧化钽-氧化铅膜等)三种。采用阳极氧化法、反应溅射法、等离子阳极氧化法等制取。氧化钽是一种优良的介电薄膜,介电常数为25。掺杂膜具有高的介电性能。复合膜具有高的阴极击穿电压。用于制作用在集成电路中的薄膜容器。
CAS号:
性质:一种以氧化钽为主成分的介电薄膜。有纯氧化钽膜、掺杂钽基薄膜(掺氮、铝或硅)和钽基复合薄膜(如氧化钽-氧化硅膜、氧化钽-氧化铅膜等)三种。采用阳极氧化法、反应溅射法、等离子阳极氧化法等制取。氧化钽是一种优良的介电薄膜,介电常数为25。掺杂膜具有高的介电性能。复合膜具有高的阴极击穿电压。用于制作用在集成电路中的薄膜容器。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条