1) noncrystalline silica
非晶氧化硅
3) amorphous SiO_x:H films
非晶氧化硅薄膜
4) amorphous silica
非晶形氧化硅
5) Modified amorphous silica
改性非晶质二氧化硅
6) hydrogenated amorphous silicon
氢化非晶硅
1.
We report the fabrication and operation of an optically addressed spatial light modulator(OASLM), consisting of a hydrogenated amorphous silicon (α-Si: H) pin photodiode as a photosensor and a twist nematic liquid crystal(TNLC) as the modulating material.
报道了用氢化非晶硅（α－Ｓｉ：Ｈ）ｐｉｎ二极管作光敏层，扭曲向列型液晶（ＴＮＬＣ）作电光调制层的光寻址空间光调制器（ＯＡＳＬＭ）的设计、制作与性能测试。
2.
The general structure and operation of the hydrogenated amorphous silicon/ ferroelectric liquid crystal spatial light modulators(FLCSLMs) were described in detail.
描述了氢化非晶硅／铁电液晶空间光调制器的结构和工作原理，并从器件的电学模型出发，着重讨论了整体器件对光敏层的特性要求，对ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜ｐ－ｉ－ｎ光敏层的制作和光电特性进行了研
3.
The hydrogenated amorphous silicon thin film (a-Si∶H) is an important light-sensitive material.
氢化非晶硅薄膜(a-Si∶H)是目前重要的光敏材料,而薄膜中的H含量及组态对薄膜的稳定性有着极其重要的影响。
补充资料：非晶氧化硅
分子式：
CAS号：
性质：玻璃态氧化硅和各种无定形氧化硅的总称。结构为连续而混乱的SiO4四面组成的网络。密度2.2g/cm3。具有高的化学稳定性、低的热膨胀系数(5.5×10-7℃)、高热冲击抗力。杨氏模量73GPa。剪切模量31GPa。泊松比0.17。极限强度1.6～2.3GPa。采用熔融过冷等方法制取。用于制造化学分析器皿、热电偶套管、透镜等。
CAS号：
性质：玻璃态氧化硅和各种无定形氧化硅的总称。结构为连续而混乱的SiO4四面组成的网络。密度2.2g/cm3。具有高的化学稳定性、低的热膨胀系数(5.5×10-7℃)、高热冲击抗力。杨氏模量73GPa。剪切模量31GPa。泊松比0.17。极限强度1.6～2.3GPa。采用熔融过冷等方法制取。用于制造化学分析器皿、热电偶套管、透镜等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条