2) a-SiNx:H
氢化非晶氮化硅
3) a-SiN x:H films
非晶氮化硅薄膜
5) density of states in a-Si:H
氢化非晶硅隙态密度
6) amorphous GaN
非晶氮化镓
1.
Optical properties of amorphous GaN films deposited by sputtering
溅射制备非晶氮化镓薄膜的光学性能
补充资料:氮化硅晶须补强氮化硅陶瓷复合材料
分子式:
CAS号:
性质:以氮化硅陶瓷为基体,以氮化硅晶须为增强体的复合材料。它具有高强度、高硬度、耐高温、抗蠕变、抗氧化、抗化学腐蚀、抗热冲击、耐磨等优良性能,是一种重要的高温结构陶瓷。使用温度可达1300℃,可用在陶瓷刀具、拔丝模、轴承、涡轮转子、耐热坩埚等方面。采用粉末冶金复合法制备。这一复合材料的界面难以控制,一般氮化硅晶须要通过涂层,才能保持在烧结过程中的稳定性。
CAS号:
性质:以氮化硅陶瓷为基体,以氮化硅晶须为增强体的复合材料。它具有高强度、高硬度、耐高温、抗蠕变、抗氧化、抗化学腐蚀、抗热冲击、耐磨等优良性能,是一种重要的高温结构陶瓷。使用温度可达1300℃,可用在陶瓷刀具、拔丝模、轴承、涡轮转子、耐热坩埚等方面。采用粉末冶金复合法制备。这一复合材料的界面难以控制,一般氮化硅晶须要通过涂层,才能保持在烧结过程中的稳定性。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条