1) dyes for photoetching
光刻胶用染料
2) dyes for optical imagine
光导材料用染料
3) dyes for viscose rayon
粘胶丝用染料
4) photoresist
[,fəutəuri'zist]
光刻胶
1.
Progress in the Research of Chemical Amplified Photoresist;
化学放大光刻胶高分子材料研究进展
2.
Research on thick photoresist mask electroplating process in micro-fabrication;
微加工厚光刻胶掩膜电镀工艺研究
3.
Key technique of photoresist through-mask Electrochemical micromachining;
光刻胶掩膜微细电化学加工参数的试验研究
5) 193 nm photoresist
193nm光刻胶
1.
2-methyl adamantine-2-yl methacrylate and 2-ethyl adamantine-2-yl methacrylate are two important monomers of matrix polymer for 193 nm photoresist.
甲基丙烯酸(2-甲基-2-金刚烷)酯和甲基丙烯酸(2-乙基-2-金刚烷)酯是两个重要的193nm光刻胶主体树脂的单体。
6) 248 nm photoresists
248nm光刻胶
补充资料：光刻胶用染料
分子式：
CAS号：
性质：微电子工业光刻过程中所用的染料。通常是那些含两个或三个双偶氮萘醌功能团的化合物和一些茚-3-羧酸类染料。三芳甲烷类染料和芘蒽衍生物是特殊用途的(在曝光过程中存在氧化还原反应和自由基)光刻胶用染料。
CAS号：
性质：微电子工业光刻过程中所用的染料。通常是那些含两个或三个双偶氮萘醌功能团的化合物和一些茚-3-羧酸类染料。三芳甲烷类染料和芘蒽衍生物是特殊用途的(在曝光过程中存在氧化还原反应和自由基)光刻胶用染料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条