1) laser induced gas phase reaction
激光诱导气相合成
3) laser induced chemical vapor deposition
激光诱导化学气相沉积
1.
By using laser induced chemical vapor deposition method,amorphous silicon nitride nano-powders were prepared.
采用激光诱导化学气相沉积法制备出超细(7~15 nm)、理想化学剂量(N/Si=1。
4) laser-induced gas-phase reaction
激光诱导气相反应
1.
In order to prepare the high-temperature radar absorbing materials,nano SiC,Si3N4 and SiC(N) powders were synthesized from SiH4?C2H2,SiH4-N2H3 and hexamethyldisilazane ((Me3Si)2NH) (Me:CH3),by a laser-induced gas-phase reaction.
为了制备耐高温吸波材料,用激光诱导气相反应法,以六甲基二硅胺烷[(Me3Si)2NH](Me:CH3)、乙炔、硅烷和氨气为原料,用双反应室激光气相合成纳米粉体装置分别制备了纳米SiC,Si3N4和SiC(N)粉体,纳米粉体的粒径为20～30nm。
5) laser-driven gas-phase synthesis
激光气相合成
1.
This paper introduces a newly developed technique,which is the combination oflaser-driven gas-phase synthesis of clusters and on-line time-of-flight mass spectrometer.
详细介绍了ＣＯ２激光气相产生围簇及实时检测这一新技术，它是激光气相合成和飞行时间质谱技术相结合的产物。
6) laser light activation imaging
激光诱导成像
补充资料：激光诱导化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条