1) optical grade diamond
光学级金刚石膜
2) optical-grade transparent diamond film
光学级透明金刚石膜
1.
Microwave plasma chemical vapor deposition(MWPCVD) technique,as an electrodeless discharge and clean method,was adopted to prepare optical-grade transparent diamond films on single-crystal silicon substrates.
采用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法在单晶硅片上制备光学级透明金刚石膜,利用傅里叶红外分光光度计和紫外-可见分光光度计分别测试不同厚度金刚石膜的红外光和紫外-可见光波段的透过率,并分析了测试结果。
3) Optical-quality CVD diamond thick films
光学级CVD金刚石厚膜
4) diamond films
金刚石膜
1.
Effect of Ti interlayer on thermal residual stresses of CVD diamond films;
钛过渡层对CVD金刚石膜热残余应力的影响
2.
Deposition of diamond films on steel substrate by precoating an intermediate layer;
钢基底上预镀中间层沉积金刚石膜
3.
Steady and rapid deposite CVD diamond films under high-power using microwave;
微波法大功率稳定快速沉积CVD金刚石膜
5) diamond film
金刚石膜
1.
Mechanical polishing of CVD diamond films;
机械法抛光加工金刚石膜研究
2.
Chemically etching vapor-deposited diamond films by using hydrogen plasma under graphitization effect of iron;
氢等离子体在铁催石墨化作用下对CVD金刚石膜的刻蚀
3.
Experimental investigation and bonding mechanism of brazing diamond film;
钎焊金刚石膜的试验研究及机理分析
6) diamond coating
金刚石膜
1.
Study on CVD Diamond Coating on Cemented Carbide Substrate with High Content of Cobalt;
高钴硬质合金基底化学气相沉积金刚石膜的研究
2.
Technology of microwave plasma chemical vapor deposition diamond coating upon WC-Co tools;
WC-8.0%Co基底上微波等离子化学气相沉积金刚石膜
补充资料：金刚石膜
分子式：
CAS号：
性质：用低压或常压化学气相沉积(CVD)方法人工合成的金刚石膜。金刚石的硬度在固体材料中最高，达HV100GPa，热导率为100W·cm-l·K-1，为铜的5倍，禁带宽度为6.6～8.0eV，室温电阻率高达1016Ω·cm，通过掺杂可以形成半导体材料。金刚石在从紫外到红外广阔频带里都有很高的光学透射率，它还是一种优良耐腐蚀材料。金刚石膜的制备方法有热化学气相沉积(TCVD)和等离子体化学气相沉积(PCVD)两大类。现正在研究将研制得到的金刚石膜作耐磨涂层、声学膜片、光学窗口、集成电路高热导基片。还研究在硅片上外延单晶金刚石膜，以制备金刚石器件。
CAS号：
性质：用低压或常压化学气相沉积(CVD)方法人工合成的金刚石膜。金刚石的硬度在固体材料中最高，达HV100GPa，热导率为100W·cm-l·K-1，为铜的5倍，禁带宽度为6.6～8.0eV，室温电阻率高达1016Ω·cm，通过掺杂可以形成半导体材料。金刚石在从紫外到红外广阔频带里都有很高的光学透射率，它还是一种优良耐腐蚀材料。金刚石膜的制备方法有热化学气相沉积(TCVD)和等离子体化学气相沉积(PCVD)两大类。现正在研究将研制得到的金刚石膜作耐磨涂层、声学膜片、光学窗口、集成电路高热导基片。还研究在硅片上外延单晶金刚石膜，以制备金刚石器件。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条