1) chemical mechanical planarization(CMP)
化学机械平面抛光(CMP)
2) chemical mechanical polishing
化学机械抛光(CMP)
3) chemical mechanical polishing(CMP)
化学机械抛光(CMP)
4) chemical mechanical polishing (CMP)
化学机械抛光(CMP)
5) chemical mechanical polishing(CMP) technology
化学机械抛光(CMP)技术
补充资料：抛光剂,抛光混合剂
CAS：68909-13-7
中文名称：焙烧提浓的氟碳铈镧矿；抛光剂,抛光混合剂
英文名称：Bastnaesite, calcined concentrate；Calcined bastnasite；bastnaesite, calcined conc.；polishing compound；Bastnaesite,calcined concentrate
中文名称：焙烧提浓的氟碳铈镧矿；抛光剂,抛光混合剂
英文名称：Bastnaesite, calcined concentrate；Calcined bastnasite；bastnaesite, calcined conc.；polishing compound；Bastnaesite,calcined concentrate
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条