1) direct laser deposition
直接激光沉积
1.
,selective laser cladding(SLC),and direct laser deposition(DLD),i.
对比了3类金属粉末激光快速成形工艺:选区激光烧结;选区激光重熔,或称选区激光熔覆;以及直接激光沉积,或称激光净成形。
2) laser-aided direct metal deposition
激光辅助直接金属沉积
3) laser deposition
激光沉积
1.
The behaviors of the Nb,Ti,Al mixed powder stream concentration from a coaxial laser deposition nozzle and the molten pool in laser deposition process in the controlled environment chamber have been observed and analyzed with a charge coupled device(CCD) camera.
根据微粒光散射理论对CCD拍摄的粉末流图像进行分析,得出了不同位置处粉末流的分布模型,并结合实验获取了用于激光沉积的同轴送粉喷嘴到沉积表面的适用距离区间。
2.
Buffer layers of MgO(or CeO2)were first deposited on silicon substrates,and then BaTiO3(BTO)ferroelectric films were formed again by pulsed laser deposition.
采用脉冲激光沉积方法,在硅基片上先沉积 MgO 或 CeO2缓冲层后再制备 BaTiO3 (BTO)铁电薄膜。
3.
Nanocomposite films composed of Ag particles embedded in BaTiO_3 matrix were grown on MgO(100) substrates by pulsed laser deposition.
在MgO(100)基片上利用脉冲激光沉积技术制备了掺有Ag纳米颗粒的BaTiO3复合薄膜。
4) vertical pulsed-laser deposition (VPLD)
垂直靶向脉冲激光沉积
5) vertical pulsed laser deposition (VPLD)
垂直脉冲激光沉积法
6) vertical pulsed laser deposition
垂直脉冲激光沉积
补充资料：激光化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条