1) n GaAs
n型重掺杂GaAs
2) GaAs doping
GaAs掺杂
3) n-type doping
n型掺杂
1.
In this paper we mainly study preparation, properties and n-type doping of cubic boron nitride thin films.
本文主要研究立方氮化硼的制备、性质和n型掺杂等内容。
2.
In this paper, the mechanisms of the reaction about N-type doping polysilicon which take PCl_3/H_2 as phosphor source were investigated theoretically for the first time with Gaussian98 program at B3LYP/6-311G** level.
本文分别研究了PCl_3/H_2在气相中和在硅衬底表面上的微观反应机理,以期为半导体N型掺杂技术提供必要的理论依据。
4) MD-GaAs material
调制掺杂GaAs
5) Undoped GaAs film
不掺杂GaAs膜
6) Undoped SI GaAs
不掺杂SI-GaAs
补充资料：掺杂型结构导电高分子
分子式：
CAS号：
性质：结构型导电高分子是指高分子本身具有导电结构，不需借助外加导电性材料的聚合物，多为线性共轭聚合物和某些高分子金属络合物。这些聚合物经过掺杂处理之后形成电荷转移络合物，掺杂后其电导率可以大幅度提高，一般可以提高几个数量级，甚至可以接近常见金属导体的电导率，如聚乙炔和聚吡咯经化学或者电化学掺杂处理后，其电导率可以达到102S/cm以上，在某些场合可以替代金属材料。其特点和应用参见本征型导电高分子。
CAS号：
性质：结构型导电高分子是指高分子本身具有导电结构，不需借助外加导电性材料的聚合物，多为线性共轭聚合物和某些高分子金属络合物。这些聚合物经过掺杂处理之后形成电荷转移络合物，掺杂后其电导率可以大幅度提高，一般可以提高几个数量级，甚至可以接近常见金属导体的电导率，如聚乙炔和聚吡咯经化学或者电化学掺杂处理后，其电导率可以达到102S/cm以上，在某些场合可以替代金属材料。其特点和应用参见本征型导电高分子。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条